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J-GLOBAL ID：201002265267889623   整理番号：10A0340012

グラファイト上の自己集合CuPc/F₁₆CuPc二元超構造の走査トンネル顕微鏡研究

Scanning Tunneling Microscopy Investigation of Self-Assembled CuPc/F₁₆CuPc Binary Superstructures on Graphite

著者 (7件)： HUANG Yu Li (National Univ. Singapore, Singapore) ,  LI Hui (National Univ. Singapore, Singapore) ,  LI Hui (Nanjing Univ., Nanjing, CHN) ,  MA Jing (Nanjing Univ., Nanjing, CHN) ,  HUANG Han (National Univ. Singapore, Singapore) ,  CHEN Wei (National Univ. Singapore, Singapore) ,  WEE Andrew T. S. (National Univ. Singapore, Singapore)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 26  号： 5  ページ： 3329-3334  発行年： 2010年03月02日 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： グラファイト上の銅(II)-フタロシアニン(CuPc)および銅(II)-ヘキサデカフルオロ-フタロシアニン(F₁₆CuPc)から成る二元分子系の自己集合を,in situ低温走査トンネル顕微鏡(LT-STM)により研究した。CuPcおよび F₁₆CuPcを,低温Knudsenセルから新たにへき開した高配向性熱分解グラファイト表面に堆積した。被覆率は二つの分子で一単分子層以下になるように調節した。またLT-STMは6×10^-11mbar以上の超高真空マルチチャンバで77Kで測定した。この二元分子系のグラファイト上への吸着は,良く秩序化したチェス盤様ナノパターンを形成した。ゲストCuPc分子の面内分子配向は,被覆率により変化した。低被覆率においては,希薄なCuPc分子は二つの異なる面内配向を持つホストF₁₆CuPc単分子層にランダムに埋め込まれた。一方,CuPc被覆率が増大すると,CuPcおよびF₁₆CuPcの面内分子配向は一方向性で高度に秩序化したチェス盤様パターン形態をもたらした。一方,分子動力学シミュレーションからは,選択的で指向性の分子間水素結合が面内分子配向と超分子充填形成を決定することが示唆された。

シソーラス用語： *グラファイト ,  *自己集合 ,  *銅錯体 ,  その場観察 ,  走査型トンネル顕微鏡 ,  容器 ,  粒子源 ,  劈開【結晶】 ,  高配向性熱分解グラファイト ,  堆積 ,  被覆率 ,  単分子層 ,  超高真空 ,  実験装置 ,  吸着 ,  規則化 ,  ナノ構造 ,  パターン形成 ,  *分子配向 ,  埋込み【挿入】 ,  指向性 ,  分子動力学 ,  計算機シミュレーション ,  水素結合 ,  *分子間相互作用 ,  *超分子 ,  充填 ,  大環状化合物 ,  窒素複素環化合物 ,  架橋化合物 ,  芳香族縮合化合物
準シソーラス用語： Knudsenセル

分類 (2件)： 第11族,第12族元素の錯体  (CE01050Y) ,  コロイド化学一般  (CB11010C)

物質索引 (2件)： フタロシアニン ,  ヘキサデカフルオロフタロシアニン

タイトルに関連する用語 (6件)： グラファイト ,  自己集合 ,  CuPc ,  超構造 ,  走査トンネル顕微鏡 ,  研究