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J-GLOBAL ID：201002265928450500   整理番号：10A0164549

制御した異方性濡れを示すバイオミメティック表面を実現する簡単な戦術

A simple strategy to realize biomimetic surfaces with controlled anisotropic wetting

著者 (8件)： WU Dong (State Key Lab. on Integrated Optoelectronics, Coll. of Electronic Sci. and Engineering, Jilin Univ., 2699 Qianjin ...) ,  CHEN Qi-dai (State Key Lab. on Integrated Optoelectronics, Coll. of Electronic Sci. and Engineering, Jilin Univ., 2699 Qianjin ...) ,  YAO Jia (State Key Lab. on Integrated Optoelectronics, Coll. of Electronic Sci. and Engineering, Jilin Univ., 2699 Qianjin ...) ,  GUAN Yong-chao (State Key Lab. on Integrated Optoelectronics, Coll. of Electronic Sci. and Engineering, Jilin Univ., 2699 Qianjin ...) ,  WANG Jian-nan (State Key Lab. on Integrated Optoelectronics, Coll. of Electronic Sci. and Engineering, Jilin Univ., 2699 Qianjin ...) ,  NIU Li-gang (State Key Lab. on Integrated Optoelectronics, Coll. of Electronic Sci. and Engineering, Jilin Univ., 2699 Qianjin ...) ,  FANG Hong-hua (State Key Lab. on Integrated Optoelectronics, Coll. of Electronic Sci. and Engineering, Jilin Univ., 2699 Qianjin ...) ,  SUN Hong-bo (State Key Lab. on Integrated Optoelectronics, Coll. of Electronic Sci. and Engineering, Jilin Univ., 2699 Qianjin ...)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 96  号： 5  ページ： 053704  発行年： 2010年02月01日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 異方的な濡れの研究はバイオミミィックーの最も重要な表面分野の1つになった。しかし,制御して異方性表面を実現するのはチャレンジングな課題である。ここでは,レーザ干渉リソグラフィーによって作成した様々な線幅,周期,及び高さの溝における異方性濡れを調べ,その異方性は高さに強く依存することを見いだした。高さが100nmから1.3μmへ変化すると,異方性は9°から48°へと大きく増大した。これはある熱力学模型により,高くなると自由エネルギー障壁が増大する結果起こると解釈した。この関係によれば,制御した異方性表面は,樹脂の厚みを変化させて簡単に実現する溝の高さを調整すれば容易に実現する。最後に,表面を変調すると,垂直接触角がさらに131°±2°へ増大した。これは草の葉の135°±3°に非常に近い。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： バイオテクノロジー ,  材料科学 ,  *濡れ ,  異方性 ,  *フォトリソグラフィー ,  光干渉 ,  自由エネルギー ,  *接触角 ,  *溝 ,  表面性状
準シソーラス用語： バイオミメティック ,  バイオミメティクス ,  レーザ干渉

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 異方性 ,  濡れ ,  戦術