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J-GLOBAL ID：201002266516739455   整理番号：10A0449130

放電基礎パラメータと放電応用技術の最前線

Advanced Discharge Applications and Fundamental Discharge Parameters

資料名： 電気学会技術報告
号： 1185  ページ： 102P  発行年： 2010年04月05日 
JST資料番号： S0378A  ISSN： 0919-9195  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 21世紀に入った現在,IT技術,ナノテクさらにフォトンテクノロジーへと引き繋がれて来た最先端技術の中で,放電プラズマ技術の果たす役割は依然として大きく,早い速度で進展している。数10nmのエッチング技術の開発とその裏づけとなるモデリングの結果を結びつけて議論される半導体プロセスや,nsからμsオーダの広範囲な時間スケールで起こる衝突反応を基礎にして放電機構を議論しなければならない地球環境改善技術(誘電体バリア放電や沿面放電)などを考える上で,これまで話題にならなかった原子分子を含めた基礎データへの関心と要望が引き続き多い。それと共に,放電プラズマの特徴である発光,特に真空紫外領域における発光とその作用に関する実験結果が報告され議論されることが目立つようになってきた。これらを踏まえ,電子と原子分子の相互作用をこれまでより広い見方で整理し,真空紫外光による効果も調査項目に入れ,新しい技術の動向をまとめた。(著者抄録)

シソーラス用語： パラメータ ,  *プラズマ ,  相互作用 ,  *放電 ,  *真空紫外線 ,  荷電粒子 ,  分子衝突
準シソーラス用語： 衝突断面積 ,  *放電プラズマ

分類 (1件)： 放電一般  (BJ03010I)

引用文献 (478件)：

• 中村・佐久間・森: 電気学会論文誌A51, 267-273(1976)
• A. G Engelhardt, A. V. Phelps and C. G Risk: Phys. Rev.135, A1556(1964)
• A. V. Phelps and L. G Pitchford: Phys. Rev. A 31, 2932(1985)
• W. Sun et. al.: Phys. Rev. A 52, 1229(1995)
• M.-T. Lee and I. Iga: J. Phys. B 32, 453(1999)

タイトルに関連する用語 (4件)： 放電 ,  基礎 ,  パラメータ ,  応用