文献

J-GLOBAL ID：201002266848250247   整理番号：10A0959164

溶媒アニール法を用いた再配列化によるナノ粒子高秩序吸着構造の作製

著者 (6件)： 北條大介 (東北大 WPI材料機構) ,  冨樫貴成 (東北大 WPI材料機構) ,  南公隆 (東北大 多元物質科研) ,  有田稔彦 (東北大 多元物質科研) ,  高見誠一 (東北大 多元物質科研) ,  阿尻雅文 (東北大 WPI材料機構)
資料名： 化学工学会秋季大会研究発表講演要旨集(CD-ROM)  (化学工学会秋季大会(CD-ROM))
巻： 42nd  ページ： ROMBUNNO.WA2P42  発行年： 2010年08月06日 
JST資料番号： L0827B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： マイクロエレクトロニクス ,  低温 ,  プリント基板 ,  *環状エーテル ,  *蒸気 ,  *熱処理 ,  *ナノ粒子 ,  *規則化 ,  *吸着 ,  表面構造 ,  配列 ,  自己組織化 ,  酸化セリウム
準シソーラス用語： プラスチック基板 ,  プリンタブルエレクトロニクス ,  *吸着構造 ,  再配列

分類 (4件)： プリント回路  (NA05040O) ,  加熱  (PA03040C) ,  機械加工,仕上げ一般  (YH04111G) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z)

物質索引 (1件)： テトラヒドロフラン

タイトルに関連する用語 (6件)： 溶媒 ,  アニール ,  再配列 ,  ナノ粒子 ,  吸着構造 ,  作製