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J-GLOBAL ID：201002267405076747   整理番号：10A1336763

ジチゾン含有酸性混合溶媒系(H₂O+エタノール)から発泡ポリウレタンへのHg(II)イオンの吸着プロファイルと錯体形成挙動

Adsorption Profile and Complexing Behavior of Hg(II) Ions onto Polyurethane Foam from Acidic Mixed Solvent System (H₂O + Ethanol) Containing Dithizone

著者 (2件)： SAEED Muhammad Mufazzal (Pakistan Inst. of Nuclear Sci. and Technol., Islamabad, PAK) ,  GHAFFAR Abdul (Pakistan Inst. of Nuclear Sci. and Technol., Islamabad, PAK)
資料名： Separation Science and Technology  (Separation Science and Technology)
巻： 45  号： 12/14  ページ： 2095-2103  発行年： 2010年07月15日 
JST資料番号： D0435B  ISSN： 0149-6395  CODEN： SSTEDS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ジチゾンは,Hg(II)の液-液,又は液-固分離・濃縮に広く利用されている。発泡ポリウレタン(PUF)は,微量金属イオンの分離と濃縮に汎用されている安価な吸着剤である。PUFの吸着特性は,分析対象の金属に応じて用いる有機試薬によって変えることができる。本研究では,ジチゾン含有酸性25%アルコール水溶液からPUFへのHg(II)イオンの吸着挙動を調べた。PUFへのHg(II)の吸着は,Langmuirモデルに従い,5-45°Cの範囲で得た熱力学パラメーターから吸熱反応による化学吸着であることが分かった。種々のイオンを共存させてHg(II)イオンの吸着への妨害の有無を調べた結果,EDTA,チオ硫酸塩,及びシアニドが妨害した。

シソーラス用語： *溶媒 ,  *水 ,  *ポリウレタン ,  *発泡プラスチック ,  *吸着 ,  *錯体生成 ,  吸着剤 ,  モデル ,  吸着平衡 ,  熱力学関数 ,  化学吸着 ,  妨害成分 ,  *金属イオン ,  *水銀化合物 ,  脂肪族アルコール ,  芳香族化合物 ,  ウレア化合物 ,  有機硫黄化合物 ,  多窒素化合物
準シソーラス用語： Langmuirモデル ,  *ポリウレタンフォーム ,  *混合溶媒 ,  *水銀イオン

分類 (2件)： 各種物理的手法  (CC01030W) ,  吸着剤  (YB03000W)

物質索引 (2件)： エタノール ,  ジチゾン

タイトルに関連する用語 (11件)： ジチゾン ,  酸性 ,  混合溶媒 ,  エタノール ,  発泡ポリウレタン ,  Hg ,  イオン ,  吸着 ,  プロファイル ,  錯体形成 ,  挙動