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J-GLOBAL ID：201002267789317622   整理番号：10A0712235

近傍電磁界測定をEMC設計に活かす

著者 (1件)： 田畑ひろし (日立ディスプレイズ)
資料名： 電磁環境工学情報EMC  (月刊EMC)
巻： 23  号： 3  ページ： 52-62  発行年： 2010年07月05日 
JST資料番号： L0077A  ISSN： 0916-2275  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本稿では,近傍電磁界測定装置の構成・性能および測定結果の検証を紹介した。近傍磁界測定で最も大切なことは測定対象とアンテナとの測定距離を最短にすることである。今回紹介する近傍電磁界分布測定装置”EMV-200”は,これを実現するために,接触感知型のアンテナ上下移動機構を採用し,高分解能・高感度な電磁界分布測定を可能にした。EMV-200の標準仕様の装置は,アンテナを測定試料の測定位置に移動・位置決めを行なうスキャナー部,アンテナで検出したノイズの周波数ごとの大きさを分析するスペクトラムアナライザおよびこれらの制御と測定結果を表示する制御PCにより構成されている。近傍磁界の測定例として画像コントロール基板の測定例を示した。また,近傍電磁界の測定例として,カメラ付き携帯機器のカメラ部周辺の近傍電磁界測定の結果を示した。近傍電磁界測定の原理,近傍電磁界測定回路の諸特性についても述べた。

シソーラス用語： *近傍場 ,  *電磁干渉 ,  雑音発生 ,  誤動作 ,  *磁場測定 ,  *電気測定 ,  電磁誘導 ,  プローブ ,  空間分解能 ,  周波数特性 ,  電磁両立性
準シソーラス用語： EMC【電磁干渉】

分類 (2件)： 雑音一般  (ND04010J) ,  電磁気的量の計測一般  (AD07010R)

引用文献 (3件)：

• 原敦:「ユビキタス製品のイントラシステムIEMCの課題と対策」, エレクトロニクス実装学会, 電磁特性委員会, Aug.2006
• 久保寺忠:「高速ディジタル回路実装ノウハウ」, CQ出版社
• 風間智:「トライ・アンド・エラーとの決別高周波EMI測定技術の新手法を提案」, 日経エレクトロニクス, no.809, pp. 105-114

タイトルに関連する用語 (4件)： 近傍 ,  電磁界 ,  EMC ,  設計