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J-GLOBAL ID：201002267793792343   整理番号：10A0222832

金属イオンとシステインとの密度汎関数法による錯体形成研究

Density Functional Complexation Study of Metal Ions with Cysteine

著者 (3件)： PESONEN Henna (Univ. Oulu, FIN) ,  AKSELA Reijo (Kemira Oyj, Espoo, FIN) ,  LAASONEN Kari (Univ. Oulu, FIN)
資料名： Journal of Physical Chemistry A  (Journal of Physical Chemistry A)
巻： 114  号： 1  ページ： 466-473  発行年： 2010年01月14日 
JST資料番号： C0334B  ISSN： 1089-5639  CODEN： JPCAFH  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *金属イオン ,  *チオール ,  *含硫アミノ酸 ,  *脂肪族アミン ,  *脂肪族カルボン酸 ,  *第一アミン ,  *錯体生成 ,  密度汎関数法 ,  亜鉛 ,  マグネシウム ,  カルシウム ,  鉄 ,  マンガン ,  反応熱 ,  配位子 ,  八面体 ,  硫黄 ,  窒素 ,  強度 ,  連続体 ,  溶媒和 ,  モデル ,  ピラミッド形分子 ,  四面体 ,  三方晶系 ,  分子構造
準シソーラス用語： *錯体形成 ,  結合強度

分類 (3件)： イオンと分子の衝突・散乱  (BH07040L) ,  アミノ酸  (CF10070V) ,  物理化学一般その他  (CB01030T)

物質索引 (1件)： システイン

タイトルに関連する用語 (5件)： 金属イオン ,  システイン ,  密度汎関数法 ,  錯体形成 ,  研究