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J-GLOBAL ID：201002268323037952   整理番号：10A0731487

サブ28nmノードリソグラフィの要求に特化したCD測長のための3D-AFM強化

3D-AFM Enhancement for CD Metrology Dedicated to Lithography Sub-28nm Node Requirements

著者 (3件)： FOUCHER J. (CEA, Grenoble, FRA) ,  RANA N. (IBM Semiconductor Res. and Dev. Center(SRDC), NY, USA) ,  DEZAUZIER C. (ST Microelectronics, Crolles, FRA)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 7638  号： Pt.1  ページ： 763802.1-763802.15  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 現在トップダウンCD-SEMで正確なプロファイル情報を得ることは不可能である。さらに,電子の近接効果が無視できないCDバイアスをもたらしている。測定の不確かさを減らして測定できるように,3D-AFMモードに修正を加えて(DTモード)CD測定を行った。DTモードはトレンチ測定にさいしてプローブは側壁に沿ってスキャンせず垂直方向にのみスキャンする。理論的に本モードは高さ測定に特化したものであるが,スキャンパラメータを最適化すればナノメータ精度のCD測定が可能である。DTモードによるCD測定と,トレンチ寸法測定に限界を示す通常の3D-AFM CDモードを比較検討した。結果はサブ45nmトレンチの測定でDTモードは3D-AFMの限界を超えて測定できた。CD-AFM測定はスキャトロメトリやCD-SEMよりも遅いので,CD-AFMを較正に使ったハイブリッド測長の概念を導入した。

シソーラス用語： *原子間力顕微鏡 ,  三次元 ,  走査電子顕微鏡 ,  測定精度 ,  *長さ測定 ,  リソグラフィー ,  プローブ ,  長さ ,  形状測定 ,  光学的測定
準シソーラス用語： AFM【顕微鏡】 ,  CD-SEM【顕微鏡】 ,  *クリティカルディメンジョン ,  スキャトロメトリ

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： サブ ,  ノード ,  リソグラフィ ,  特化 ,  Cd ,  測長 ,  強化