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J-GLOBAL ID：201002268585739516   整理番号：10A1615902

立方晶シルセスキオキサン・ナノ粒子を含む凝集誘起高分子電解質多層膜

Aggregation induced polyelectrolyte multilayer film containing cubic silsesquioxane nanoparticles

著者 (4件)： MYA K.Y. (Agency for Sci. Technol. and Res.(A*STAR), Singapore, SGP) ,  CHONG K.S.L. (Agency for Sci. Technol. and Res.(A*STAR), Singapore, SGP) ,  TSAI B. (National Univ. Singapore(NUS), Singapore, SGP) ,  HE C.B. (Agency for Sci. Technol. and Res.(A*STAR), Singapore, SGP)
資料名： Journal of Nanoparticle Research  (Journal of Nanoparticle Research)
巻： 12  号： 8  ページ： 2865-2874  発行年： 2010年10月 
JST資料番号： W1361A  ISSN： 1388-0764  CODEN： JNARFA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： この研究では,ポリスチレンスルホン酸(PSS)ナノ粒子膜とオクタアンモニウム-シルセスキオキサン(OA-CSSQ)ナノ粒子膜からなる高分子電解質多層膜をスピン自己集合化法によりSi基板上に作製した。偏光解析法,原子間力顕微鏡観察及び水接触角測定により多層膜の形成を確認した。最初の2層までは成長は遅かったが,膜厚が厚くなるにつれて成長速度は増大した。PSS/OA-CSSQ二重層の層数が増えるにつれて表面粗さは増大した(3二重層で1.1nm,30二重層で7.0nm)。これは5層以上になるとOA-CSSQナノ粒子が凝集してクラスタ化するためである。さらにOA-CSSQナノ粒子を含んだ3成分系及びpH値の形態に及ぼす影響を調べている。

シソーラス用語： *高分子電解質 ,  *ポリスチレンスルホン酸 ,  *多層膜 ,  *ナノ粒子 ,  スピンコーティング ,  自己集合 ,  薄膜成長 ,  成長速度 ,  表面粗さ ,  ウエハ【IC】 ,  *有機ケイ素化合物
準シソーラス用語： シリコン基板 ,  膜厚依存性 ,  *シルセスキオキサン

分類 (1件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L)

物質索引 (1件)： ペンタシクロ[9.5.1.1^3,9.1^5,15.1^7,13]イコサンオクタシロキサン-1,3,5,7,9,11,13,15-オクタキス(1-プロパンアミン)

タイトルに関連する用語 (6件)： 立方晶 ,  シルセスキオキサン ,  ナノ粒子 ,  凝集 ,  誘起 ,  高分子電解質多層膜