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J-GLOBAL ID：201002268655639514   整理番号：10A0686580

FeSiAl合金における垂直入射条件での配向依存イオンビームスパッタリング

Orientation-dependent ion beam sputtering at normal incidence conditions in FeSiAl alloy

著者 (2件)： BATIC Barbara Setina (Inst. of Metals and Technol., Lepi pot 11, Ljubljana 1000, SVN) ,  JENKO Monika (Inst. of Metals and Technol., Lepi pot 11, Ljubljana 1000, SVN)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 28  号： 4  ページ： 741  発行年： 2010年07月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 6から10keVまで変わるエネルギーにおいて,垂直入射での多結晶Fe-Si-Al合金のAr⁺広イオンビームスパッタリングを行った。スパッタリングは三つの形状に分類できるエッチピットの形成をもたらした。それらは三角形,矩形,及び四角形である。個々に配向した各結晶粒がある型のパターンを示すので,そのエッチピットは電子後方散乱回折技術による結晶配向と相関性があった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *鉄合金 ,  アルミニウム含有合金 ,  *イオンビームスパッタリング ,  アルゴン ,  *エッチピット ,  *結晶方位 ,  ケイ素含有合金 ,  1-10keV ,  *多結晶 ,  電子回折
準シソーラス用語： 垂直入射 ,  電子後方散乱回折

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  スパッタリング  (BK16110U)

タイトルに関連する用語 (3件)： 垂直入射 ,  配向 ,  イオンビームスパッタリング