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J-GLOBAL ID：201002268872666490   整理番号：10A0380620

ヒストン修飾:損傷応答およびクロマチン修復に対する決定的要素

Histone modifications: crucial elements for damage response and chromatin restoration

著者 (3件)： ZHU Qianzheng (Ohio State Univ., OH, USA) ,  WANI Altaf A. (Ohio State Univ., OH, USA) ,  WANI Altaf A. (King Saud Univ., Riyadh, SAU)
資料名： Journal of Cellular Physiology  (Journal of Cellular Physiology)
巻： 223  号： 2  ページ： 283-288  発行年： 2010年05月 
JST資料番号： E0042B  ISSN： 0021-9541  CODEN： JCLLA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： イオン化照射および紫外線損傷に対するDNA損傷応答(DDR)およびDNA損傷部位の修理後のクロマチン修復に関するヒストン修飾について総説した。初めにH2A/H2AXリン酸化反応,ヒストンのユビキチン化およびヒストンのアセチル化などDNA修復前のヒストン修飾について述べた。続いてヒストン修飾とDNA複製-結合ヌクレオソーム組立,ヒストンH3K56のアセチル化およびヒストンH2Aのユビキチン化などDNA修復後のヒストン修飾について述べた。最後にクロマチンの細胞周期調節,後成的安定性および損傷記憶におけるヒストン修飾について論じた。

シソーラス用語： ヒストン ,  *化学修飾 ,  クロマチン ,  *DNA損傷 ,  *DNA修復 ,  放射線照射 ,  紫外線照射 ,  リン酸化 ,  アセチル化 ,  ユビキチン化
準シソーラス用語： *ヒストン修飾 ,  イオン化照射

分類 (2件)： 分子遺伝学一般  (EC02010J) ,  蛋白質・ペプチド一般  (EB03010N)

タイトルに関連する用語 (6件)： ヒストン修飾 ,  損傷 ,  応答 ,  クロマチン ,  修復 ,  要素