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J-GLOBAL ID：201002268985172221   整理番号：10A0923985

薄形化BaO-Al₂O₃-B₂O₃-SiO₂ガラスの絶縁破壊

Dielectric Breakdown of Thinned BaO-Al₂O₃-B₂O₃-SiO₂ Glass

著者 (5件)： LEE Hoikwan (Pennsylvania State Univ., Pennsylvania) ,  SMITH Nicholas J. (Pennsylvania State Univ., Pennsylvania) ,  PANTANO Carlo G. (Pennsylvania State Univ., Pennsylvania) ,  FURMAN Eugene (Pennsylvania State Univ., Pennsylvania) ,  LANAGAN Michael T. (Pennsylvania State Univ., Pennsylvania)
資料名： Journal of the American Ceramic Society  (Journal of the American Ceramic Society)
巻： 93  号： 8  ページ： 2346-2351  発行年： 2010年08月 
JST資料番号： C0253A  ISSN： 0002-7820  CODEN： JACTAW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 絶縁破壊機構と自己修復挙動に及ぼす絶縁体厚さ及び表面-界面粗さの効果について議論することを目的として,市販のアルカリ・フリーガラス(BaO-Al₂O₃-B₂O₃-SiO₂,厚さ50μm)の絶縁破壊挙動を調べた。ガラスの厚さと表面粗さは超音波攪拌を併用したHFエッチングにより制御し,厚さ5~47μm,表面粗さ(二乗平均粗さRMS)約2~10nmの試料を作製し,金を電極として絶縁破壊測定を行った。絶縁破壊強度は厚さが減少するに従い増加したが,ワイブル係数は表面粗さに依存した。絶縁破壊強度の厚さ依存性は2本のベキ乗則線に整理でき,厚さ20μmを転移点として2つの絶縁破壊機構が存在することが示された。絶縁破壊点の形状と静電エネルギーから,自己修復挙動は試料の厚さと電極の蒸発潜熱により制御できると考えた。

シソーラス用語： *ホウケイ酸ガラス ,  *アルミニウム化合物 ,  *バリウム化合物 ,  エッチング ,  フッ化水素 ,  *厚み ,  *表面粗さ ,  *絶縁破壊 ,  回復 ,  修理 ,  金電極 ,  絶縁耐力 ,  係数 ,  法則 ,  蒸発 ,  潜熱
準シソーラス用語： Weibull係数 ,  べき乗則 ,  ホウけい酸塩ガラス ,  厚み依存性 ,  *自己修復 ,  絶縁破壊強度 ,  薄型化

分類 (2件)： ガラスの性質・分析・試験  (YC02030Z) ,  誘電体一般  (BM05010F)

タイトルに関連する用語 (7件)： 薄形化 ,  BaO ,  Al2O3 ,  B2O3 ,  SiO2 ,  ガラス ,  絶縁破壊