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J-GLOBAL ID：201002269017226292   整理番号：10A0472197

SiO₂基板上の透明BiFeO₃膜への湿式化学法

Wet chemical route to transparent BiFeO₃ films on SiO₂ substrates

著者 (5件)： DAS Soumen (Dep. of Materials Sci., Indian Assoc. for the Cultivation of Sci., Jadavpur, Kolkata-700 032, IND) ,  BASU Soumen (Dep. of Physics, National Inst. of Technol., Durgapur 713209, West Bengal, IND) ,  MITRA Subarna (Magnetism Lab., S. N. Bose National Centre for Basic Sciences, JD Block, Sector III, Salt Lake, Kolkata 700 098, IND) ,  CHAKRAVORTY Dipankar (DST unit on Nanoscience, Indian Assoc. for the Cultivation of Sci., Jadavpur, Kolkata 700 032, IND) ,  MONDAL Bhola Nath (Central Scientific Serv., Indian Assoc. for the Cultivation of Sci., Jadavpur, Kolkata 700 032, IND)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 518  号： 15  ページ： 4071-4075  発行年： 2010年05月31日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： BiFeO₃ナノ粒子を湿式化学合成法により作製した。合成したゾルからディップ及びスピンコーティング工程によりガラス及び石英基板上に透明膜を堆積した。ディップコーティング法によりより厚い膜(~2μm),またスピンコーティング法によりより薄い膜(~200nm)を得た。透過型電子顕微鏡像から粒子はナノ結晶であることを確認した。光透過スペクトルからBiFeO₃ナノ粒子のバンドギャップは約3.03~2.88eV(約410~430nm)と決定した。温度に対する電気抵抗率,分極並びにゼロ磁場及び磁場中冷却下での磁化特性をこれらの膜に対して調べた。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： ビスマス化合物 ,  フェライト ,  鉄酸塩 ,  磁性薄膜 ,  *ゾル-ゲル法 ,  スピンコーティング ,  浸漬塗装 ,  ナノ結晶 ,  *光学ギャップ ,  光学定数 ,  *透明材料 ,  電気抵抗率 ,  *磁化特性 ,  透過型電子顕微鏡 ,  電子顕微鏡観察 ,  薄膜成長
準シソーラス用語： *ビスマスフェライト ,  石英基板 ,  ガラス基板

分類 (4件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光物性一般  (BM08010A) ,  磁区・磁化過程一般  (BM06111M) ,  磁性材料  (NA04040H)

タイトルに関連する用語 (3件)： SiO2 ,  BiFeO3 ,  化学法