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J-GLOBAL ID：201002269410260850   整理番号：10A0516219

COの低温酸化におけるSiO₂に担持したCuO-CeO₂触媒の研究

Study of CuO-CeO₂ catalysts supported on SiO₂ on the low-temperature oxidation of CO

著者 (5件)： ASTUDILLO Julian (Departamento de Ingenieria Quimica, Universidad de Chile, Casilla 2777, Santiago, CHL) ,  AGUILA Gonzalo (Facultad de Ingenieria y Ciencias Aplicadas, Universidad de los Andes, Av. San Carlos de Apoquindo 2200, Santiago, CHL) ,  DIAZ Francisco (Departamento de Ingenieria Quimica, Universidad de Chile, Casilla 2777, Santiago, CHL) ,  GUERRERO Sichem (Departamento de Ingenieria Quimica, Universidad de Chile, Casilla 2777, Santiago, CHL) ,  ARAYA Paulo (Departamento de Ingenieria Quimica, Universidad de Chile, Casilla 2777, Santiago, CHL)
資料名： Applied Catalysis. A: General  (Applied Catalysis. A: General)
巻： 381  号： 1-2  ページ： 169-176  発行年： 2010年06月15日 
JST資料番号： D0691C  ISSN： 0926-860X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 担体としてSiO₂を用いて,O₂によるCO酸化活性に及ぼすCu/Ce比及び両金属の全負荷量の影響を調べた。シリカ(Aerosil200)への全負荷量を10%一定に保った場合,最適Cu/Ce比は0.43(w/w)であった。これは3%Cu及び7%Ceの触媒に対応した。この比率において,高度分散CuO-CeO₂界面が最大であった。Cu-Ce全負荷量が増加すると触媒活性は増大したが,これ以上で最大に達した後に,触媒活性は一定になった。これは全負荷量が増加してもCu-Ce界面における活性サイトの濃度が変化しないためであった。担体の表面積が大きくなると,CeO₂と相互作用するCuO粒子が増加し,CeO₂と作用しないバルクCuO化学種が減少した。高度に分散したCuO-CeO₂界面は大きな有効表面積で影響を受けなかった。これは,種々の表面積を持つ担体で同じ活性を示すことを説明した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *酸化銅 ,  *酸化セリウム ,  *遷移金属触媒 ,  担持触媒 ,  触媒調製 ,  *一酸化炭素 ,  *接触酸化 ,  *触媒活性 ,  濃度依存性 ,  表面積 ,  分散【dispersion】 ,  X線回折 ,  TPR【触媒】 ,  低温 ,  温度依存性 ,  二酸化ケイ素
準シソーラス用語： シリカ

分類 (2件)： その他の触媒  (CB06123Z) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z)

タイトルに関連する用語 (7件)： CO ,  低温酸化 ,  SiO2 ,  担持 ,  CuO ,  触媒 ,  研究