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J-GLOBAL ID：201002269535118010   整理番号：10A0859169

銅結晶(111)表面の定電位電解における溶解速度

Dissolution Rate of the (111) Surface of Copper Crystals under Potentiostatic Electrolysis

著者 (1件)： 今清水雄二 (秋田大 工学資源 鉱業博物館)
資料名： 銅と銅合金  (Journal of Japan Institute of Copper)
巻： 49  ページ： 258-263  発行年： 2010年08月01日 
JST資料番号： S0603A  ISSN： 1347-7234  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 結晶の原子サイズの溶解過程は以下のように考えられる。結晶面の稠密原子面をテラスとするキンク位置から原子は各経路を経て溶液中に離脱溶解し,それに伴い表面ステップが稠密原子面に沿って移動することにより結晶の溶解は進行する。ここで,結晶表面の溶解速度を表す式が与えられているが,その検証は十分ではない。本研究では,銅結晶(111)表面の定電位電界における溶解速度を調べ,その温度依存性を電気化学的に解析し,結晶表面の溶解速度を表す式の定量的な検証を行なった。銅結晶の電界における溶解速度は,表面ステップの溶解速度に及ぼす電極反応に関与するイオンの電極面濃度の効果を考慮することによって定量的に説明できた。

シソーラス用語： *銅 ,  高純度金属 ,  *電気化学的挙動 ,  電解 ,  *溶解 ,  溶解速度 ,  表面 ,  気固界面 ,  表面ステップ ,  結晶面 ,  温度依存性 ,  定量的分析 ,  電気化学反応 ,  イオン ,  濃度 ,  キンク ,  電流電圧特性 ,  電気化学的分極 ,  過電圧 ,  定数 ,  イオン濃度
準シソーラス用語： 電極反応 ,  速度定数

分類 (1件)： 電気化学反応  (CB07050F)

引用文献 (8件)：

• W. Schaarwachter phys.stat.sol., 12(1965), 865-876.
• 渡邉慈朗, 今清水雄二, 菅原茂美: 素材物性学雑誌16(2003), 13-20.
• L.Jasper and W. Schaarwachter: Z.Metallkde., 57(1966), 661-668.
• W. Schaarwachter and K. Lucke: Z. Phys. Chemie Neue Folge, 53(1967), 367-386.
• Y. Imashimizu and J. Watanabe: Trans. JIM, 24(1983), 791-798.

タイトルに関連する用語 (4件)： 銅 ,  結晶 ,  定電位電解 ,  溶解速度