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J-GLOBAL ID：201002269539959214   整理番号：10A0292042

陽電子消滅スペクトロスコピーを用いたアルミナ-ジルコニア層状セラミックの微細組織キャラクタリゼーション

Microstructural characterization of alumina-zirconia layered ceramics using positron annihilation spectroscopy

著者 (7件)： PARENTE P. (Departamento de Fisica, Universidad Carlos III de Madrid, 28911 Leganes, ESP) ,  ORTEGA Y. (Departamento de Fisica de Materiales, Facultad de Ciencias Fisicas, Univ. Complutense de Madrid, 28040 Madrid, ESP) ,  SAVOINI B. (Departamento de Fisica, Universidad Carlos III de Madrid, 28911 Leganes, ESP) ,  MONGE M.a. (Departamento de Fisica, Universidad Carlos III de Madrid, 28911 Leganes, ESP) ,  TUCCI A. (Centro Ceramico Bologna, 40128 Bologna, ITA) ,  ESPOSITO L. (Centro Ceramico Bologna, 40128 Bologna, ITA) ,  SANCHEZ-HERENCIA A.j. (Instituto de Ceramica y Vidrio, Consejo Superior de Investigaciones Cientificas, 28049 Madrid, ESP)
資料名： Acta Materialia  (Acta Materialia)
巻： 58  号： 8  ページ： 3014-3021  発行年： 2010年05月 
JST資料番号： A0316A  ISSN： 1359-6454  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 陽電子消滅法(PAS),押込試験,ナノインデンテーション試験及び走査型電子顕微鏡(SEM)観察によって,Al₂O₃-ZrO₂積層材試料の機械的性質と微細組織に及ぼす残留応力の影響を検討した。積層材試料は,2枚の薄いAl₂O₃外層とその中間にあるAl₂O₃と0~30体積%の単斜晶ZrO₂との混合物の厚い内層から成り,鋳込成形によって製作した。この積層材には焼結温度からの冷却中に,ZrO₂を含む内層の膨張によって外層の内部に残留引張応力場が生じる。SEM観察によって,ジルコニア含有量に関連する残留引張応力の大きさが微細組織の影響によることを明らかにした。残留応力の存在に起因するPASパラメータと微細組織の変化との間に相関関係のあることを見出した。ナノインデンテーション実験によって,層間界面を超えた残留応力勾配の形と大きさを推定した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 残留応力 ,  *セラミック ,  多層 ,  陽電子消滅 ,  ナノインデンテーション ,  *アルミナ ,  酸化ジルコニウム ,  *微細構造 ,  積層材料 ,  引張応力 ,  応力場 ,  勾配 ,  膨張 ,  鋳込成形 ,  混合物 ,  機械的性質 ,  スペクトロスコピー
準シソーラス用語： ジルコニア ,  応力勾配

分類 (1件)： セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (6件)： 陽電子消滅スペクトロスコピー ,  アルミナ-ジルコニア ,  層状 ,  セラミック ,  微細組織 ,  キャラクタリゼーション