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J-GLOBAL ID：201002269687529881   整理番号：10A1755054

排水中の1,4-ジオキサンのガスバブリング揮発とUV照射分解挙動

Behavior of Gas Bubbling Vaporization and UV Irradiation Decomposition for 1,4-Dioxane in Wastewater

著者 (3件)： 谷本めぐみ ((株)ソイルテック) ,  福岡寛 ((株)ソイルテック) ,  重本直也 ((株)四国総合研究所 化学技術部)
資料名： 化学工学論文集
巻： 36  号： 6  ページ： 611-616 (J-STAGE)  発行年： 2010年 
JST資料番号： S0110B  ISSN： 0386-216X  CODEN： KKRBAW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 1,4-ジオキサンを含む排水を高温(25-80°C)で,空気もしくは窒素ガスを曝気することにより1,4-ジオキサンを揮発させた.揮発した1,4-ジオキサンを含む気体に紫外線を照射することにより1,4-ジオキサンを分解した.水溶液からの1,4-ジオキサンの揮散挙動はHenry定数を用いて説明することができた.気化した1,4-ジオキサンをUV照射により分解したが,容器内での平均滞留時間にかかわらず単位時間当たり一定量が分解された.このようなガスバブリング-UV照射を1,4-ジオキサンを含む廃棄物埋め立て地浸出水に適用したところ,1,4-ジオキサンを十分に分解できることが確かめられた.1,4-ジオキサンのUV分解生成物として,acetic acid,acetol,ethylene glycol monoformateおよびethylene glycol diformateが検出された.これらの生成物は1,4-dioxane環の酸化的解列によって生成すると推定された.(著者抄録)

シソーラス用語： *廃水処理 ,  *エアレーション ,  *紫外線照射 ,  *光分解 ,  滞留時間 ,  埋立地 ,  浸出液 ,  酸化 ,  開裂反応 ,  温度依存性 ,  pH依存性 ,  濃度依存性 ,  酸素複素環化合物

分類 (2件)： 下水,廃水の化学的処理  (SC03050W) ,  下水,廃水の物理的処理  (SC03040L)

物質索引 (1件)： 1,4-ジオキサン

引用文献 (16件)：

• ALI, S.-A. Treatment Method of Contaminated Water. Japanese Patent Disclosure H8-504666. 1996
• DEY, A. Sizing of Primary UV TOC Reducers in Typical UPW Plants : A Classical Approach. Proc. Semicond. Pure Water Chem. Conf. 2001, 20, 63-82
• GALBRAITH, M. Use of Ozone, Ozone/Peroxide, and Ozone/UV for The Generation of OH Radicals to Oxidize Chlorinated Organics. Proc Mid Atl Ind Waste Conf. 1992, 24, 411-420
• HORII, Y. Treatment Method of Water Containing Traces of Persistent Pollutants. Japanese Patent Disclosure 2005-349351. 2005
• ISAKA, K. Disposal Method of 1,4-Dioxane. Japanese Patent Disclosure 2005-74409. 2005

タイトルに関連する用語 (7件)： 排水 ,  ジオキサン ,  バブリング ,  揮発 ,  UV照射 ,  分解 ,  挙動