文献

J-GLOBAL ID：201002269935238643   整理番号：10A0904126

原子移動ラジカル重合法に基づくフッ素化重合体超疎水性薄膜の作製

Based on atom transfer radical polymerization method preparation of fluoropolymer superhydrophobic films

著者 (7件)： WEI Z.j. ,  LIU W.l. ,  XIAO C.l. ,  TIAN D. ,  FAN Z.p. ,  SUN X.l. ,  WANG X.q.
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 518  号： 23  ページ： 6972-6976  発行年： 2010年09月30日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 環境大気下でフッ素化重合体超疎水性高分子被膜表面の1段階作製のための簡便なプロセスを報告した。原子移動ラジカル重合で合成されたポリスチレン-ブロック-ポリ(2,2,3,4,4,4-ヘキサフルオロブチルメタクリレート)のブロック共重合体を選択溶媒中に溶解した。溶媒を蒸発させると,ブロック共重合体はコア/シェルミセルに自己集合し,結晶粒構造の超疎水性薄膜を形成した。薄膜の接触角と滑り角はそれぞれ152.3°と9.2°で,優れた超疎水性と安定性を実証している。優れた性能は共重合体へのフッ素の導入と薄膜の結晶粒状モルフォロジーに帰せられる。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *フッ素化重合体 ,  *原子移動ラジカル重合 ,  ポリスチレン ,  ブロック共重合体 ,  高分子膜 ,  *疎水性 ,  被覆層 ,  *ミセル ,  *自己集合 ,  接触角
準シソーラス用語： *超疎水性

分類 (3件)： 共重合  (CG04030D) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  固-液界面  (CB12050B)

タイトルに関連する用語 (5件)： 原子移動ラジカル重合法 ,  フッ素化重合体 ,  超疎水性 ,  薄膜 ,  作製