抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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米International SEMATECH Manufacturing Initiative(ISMI)は,12月2日,SEMICON JAPAN 2009において450mmプログラムの進捗状況を発表した。最新動向をリポートした。プログラムは着実に進展している。単結晶Siウエハの品質向上に向けた開発が進められている。製造装置については,EPMsを目標値として開発が進められており,欠陥/エッジ検査装置のプロトタイプがクリーンルームに導入された。また,枚葉式洗浄装置のプロトタイプも導入された。450mm Progress in 2009(ISMI)を表示した。