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J-GLOBAL ID：201002270050470342   整理番号：10A0421666

ソルダーマスク用の新規な感光性ポリシロキサンウレタンアクリレートの特性研究

Study on Properties of a Novel Photosensitive Polysiloxane Urethane Acrylate for Solder Mask

著者 (2件)： SUN Fang (Beijing Univ. Chemical Technol., Beijing, CHN) ,  JIANG Shengling (Beijing Univ. Chemical Technol., Beijing, CHN)
資料名： Journal of Applied Polymer Science  (Journal of Applied Polymer Science)
巻： 116  号： 5  ページ： 3035-3039  発行年： 2010年06月05日 
JST資料番号： C0467A  ISSN： 0021-8995  CODEN： JAPNAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ヒドロキシアルキル-ポリジメチルシロキサン,イソホロンジイソシアネートおよびアクリル酸2-ヒドロキシエチルから,DBTDL触媒を添加して,ソルダーマスク用の感光性ポリシロキサンウレタンアクリレート(PSUA)を合成した。PSUAは,優れた感光性とトリプロピレングリコールジアクリレートなどの各種アクリル酸誘導体への相溶性を示した。そして,感光性,物理的および熱機械的性質を,リアルタイムFTIR,動的熱機械分析(DMTA),熱重量分析(TGA)により検討した。光重合によるPSUA高分子膜は,優れた熱特性,引張強度と靱性,耐薬品性を示し,プリント回路基板のソルダーレジスト材料としての動作要件を満たした。

シソーラス用語： *ポリジメチルシロキサン ,  光重合 ,  *プリント基板 ,  *ポリウレタンアクリレート ,  *感光性高分子 ,  熱重量分析 ,  引張強さ ,  耐化学性 ,  高分子膜 ,  硬度 ,  耐火性 ,  耐熱衝撃性 ,  相溶性 ,  重付加 ,  動的機械分析 ,  動弾性係数 ,  FTIR分光法 ,  靱性 ,  フォトレジスト
準シソーラス用語： 引張強度

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  高分子固体の物性一般  (CG02021V)

物質索引 (9件)： 1,6-ヘキサンジオールジアクリラート ,  4-メトキシフェノール ,  DBTDL ,  IPDI ,  アクリル酸2-ヒドロキシエチル ,  アクリル酸イソボルニル ,  ダロキュア1173 ,  トリプロピレングリコールジアクリレート ,  トリメチロールプロパントリアクリラート

タイトルに関連する用語 (2件)： 感光性 ,  研究