抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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アシルシランの化学は,その新規合成法の開発と反応性の解明の両面から発展してきた。特に反応性については多くの研究がなされてきており,様々な試薬に対して同族体のケトンと同様な反応性を示す一方,光や塩基性条件下では通常のケトンとは異なる反応性を示すことが知られている。著者らは,これらシリル基の特徴を利用した立体特異性合成の開発を進めてきており,ここでは,その成果である簡単なアシルシランを利用した多重立体中心の立体選択的構築(アルドール-Tischenko反応による3つの連続不斉中心を持つ1,3-ジオールの構築,Mukaiyamaアルドール反応による3つの連続不斉中心を持つ1,3-ジオールジアステレオ誘導体のジアステレオ異性体の選択的合成)およびシクロプロピルシリルケトン類の変換(シクロプロピルシリルケトン由来のシクロプロピルシリルメタノールの酸触媒処理での対応するシリル置換ホモアリル誘導体の高立体選択的合成)について解説した。