SHINTRI Shashidhar について
Rensselaer Polyiechnic Inst., NY について
RAO Sunil について
Rensselaer Polyiechnic Inst., NY について
LI Huafang について
Rensselaer Polyiechnic Inst., NY について
BHAT Ishwara について
Rensselaer Polyiechnic Inst., NY について
JHA Smita について
Univ. Wisconsin-Madison. WI について
Univ. Wisconsin-Madison. WI について
KUECH Thomas について
Univ. Wisconsin-Madison. WI について
PALOSZ Witold について
Brimrose Corp. America, MD について
TRIVEDI Sudhir について
Brimrose Corp. America, MD について
SEMENDY Fred について
U.S. Army Res. Lab., MD について
WIJEWARNASURIYA Priyalal について
U.S. Army Res. Lab., MD について
CHEN Yuanping について
U.S. Army Res. Lab., MD について
Proceedings of SPIE について
テルル化カドミウム について
化合物半導体 について
コロイド について
ナノ結晶 について
ウエハ【IC】 について
スピンコーティング について
バッファ層 について
核形成 について
ナノ粒子 について
結晶方位 について
ゲルマニウム について
単結晶 について
リソグラフィー について
パターン形成 について
MOCVD について
転位密度 について
結晶度 について
シリコン基板 について
ブロック共重合体リソグラフィー について
半導体薄膜 について
コロイド化学一般 について
固体デバイス製造技術一般 について
バッファ について
ナノ構造 について
シリコン基板 について
成長 について
CdTe について
エピ層 について
転位 について