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J-GLOBAL ID：201002270984038240   整理番号：10A0610146

熱フィラメントCVD法による細線上へのダイヤモンド合成における析出条件の検討

The Deposition Condition of Diamond on a Fine Wire by Hot Filament CVD

著者 (3件)： 本多正英 (広島県総技研 西部工技セ) ,  山本晃 (広島県総技研 西部工技セ) ,  筒本隆博 (広島県総技研 西部工技セ)
資料名： 表面技術  (Journal of the Surface Finishing Society of Japan)
巻： 61  号： 6  ページ： 441-446  発行年： 2010年06月01日 
JST資料番号： G0441B  ISSN： 0915-1869  CODEN： HYGIEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： H₂-3体積%CH₄雰囲気(圧力4kPa)中での熱フィラメントCVD法による金属細線(アルメル-クロメル線;直径0.1mm)上でのダイヤモンド合成に対する,基体である金属細線の冷却効果を調べた。水冷したCu冷却板を金属細線の近く(1~2mm)に置いて間接的に冷却し,ダイヤモンドの合成に対する影響を調べた。冷却板を置かない場合には基体温度が上がり過ぎるため,ダイヤモンドは合成されなかった。基体を冷却板により間接的に冷却することにより,フィラメント温度を原子状水素発生温度以上に加熱した場合に,基体温度をダイヤモンド合成条件の領域内(900~1000°C)に保つことが可能にあり,ダイヤモンド膜が生成した。成膜速度は約10μm/hであった。

シソーラス用語： *化学蒸着 ,  *ダイヤモンド ,  *合成鉱物 ,  金属線 ,  *効果 ,  *冷却器 ,  伝熱 ,  水素 ,  *堆積速度 ,  プロセスパラメータ ,  微細構造 ,  アルカン ,  金属細線 ,  *合成ダイヤモンド ,  *冷却効果 ,  *鉱石 ,  *宝石
準シソーラス用語： *熱フィラメントCVD

分類 (2件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  炭素とその化合物  (YB02060D)

物質索引 (1件)： メタン

引用文献 (14件)：

• 1) 吉川昌範,大竹尚登;気相合成ダイヤモンド,p.28 (オーム社,1995).
• 2) R. Haubner, S. Okoli, B. Lux ; Refractory Metals & Hard Materials, 11, 259 (1192).
• 3) A. Yamamoto, T. Tsutsumoto ; Diamond & Related Materials, 11, 784 (2002).
• 4) 本多正英,縄稚典生,山本 晃,筒本隆博;広島県立総合技術研究所西部工業技術センター研究報告,50, 21 (2007).
• 5) P. W. May, C. A. Rego, R. M. Thomas, M. N. R. Ashfold, K. N. Rosser ; Proc. Electrochem. Soc., 93, 1036 (1993).

タイトルに関連する用語 (4件)： 熱フィラメントCVD ,  細線 ,  ダイヤモンド ,  析出