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J-GLOBAL ID：201002271351421254   整理番号：10A0449078

高分子フォトニクス フォトアドレス法による長尺/ファインピッチ光導波路

著者 (1件)： 藤原誠 (住友ベークライト)
資料名： 高分子  (Polymers)
巻： 59  号： 5  ページ： 330-331  発行年： 2010年05月01日 
JST資料番号： F0168A  ISSN： 0454-1138  CODEN： KOBUA3  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 著者らは光学的に高い透明度,高いガラス転移温度およびを有するポリノルボルネン光導波路とその簡単な製作工程を開発した。ここでは「フォトアドレス法」として知られている,単純なパターン成形製作を用いる。工程では,感光性ドライフィルム上のフォトマスクを通してのUV照射だけで,長い長さと微細ピッチの光導波路を形成する。フォトアドレス法では,現像工程が不要のため,導波路フィルムのサイズは制限されず現状では長さ45cmの光導波路総称を作成することができる。光導波路は光ファイバーよりファインピッチ化が容易であり,非常に安定して,コア間スペース,損失値,コアフィールドパターンを得ることができる。

シソーラス用語： ポリノルボルネン ,  *光導波路 ,  番地付 ,  透明度 ,  ガラス転移点 ,  パターン形成
準シソーラス用語： ガラス転移温度 ,  フォトアドレス法 ,  *光付番 ,  *高分子フォトニクス

分類 (2件)： 高分子の物性一般  (CG02001Z) ,  光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H)

タイトルに関連する用語 (6件)： 高分子 ,  フォトニクス ,  フォト ,  アドレス法 ,  長尺 ,  光導波路