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J-GLOBAL ID：201002272807870109   整理番号：10A0826330

平行角度分解X線光電子スペクトルデータのシミュレーション

Simulation of parallel angle-resolved X-ray photoelectron spectroscopy data

著者 (4件)： TASNEEM G. (Vienna Univ. Technol., Vienna, AUT) ,  WERNER W. S. M. (Vienna Univ. Technol., Vienna, AUT) ,  SMEKAL W. (Vienna Univ. Technol., Vienna, AUT) ,  POWELL C. J. (National Inst. of Standards and Technol., MD, USA)
資料名： Surface and Interface Analysis  (Surface and Interface Analysis)
巻： 42  号： 6/7  ページ： 1072-1075  発行年： 2010年06月 
JST資料番号： E0709A  ISSN： 0142-2421  CODEN： SIANDQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 従来のARXPS装置とThetaプローブ装置の両方によるARXPSデータのシミュレーションのための効率的なツールであるSESSAを使用して,ARXPSの強度に対する光イオン化異方性と弾性散乱の効果について研究した。シミュレートされた強度は,平行-取り込みモードで測定されたARXPSデータに関して強い異方性効果を示した。この現象を無視するとThetaプローブ装置によるARXPSデータの定量的解析に対して重大な影響を及ぼす可能性が高い。弾性散乱の効果は本研究で検討したC/₂/Si試料の場合ほど強くないが,高原子数の元素を含む試料(C/HfO₂/Si)または比較的低いエネルギーの場合には大きな効果が観察される。SESSAは,Thetaプローブ装置を使用した定量的XPS分析のための相対感度係数の計算のためにも使用できる。Al₂O₃についての相対感度因子の計算値と実測値は良く一致した。

シソーラス用語： *角度分解分光法 ,  *X線光電子スペクトル ,  *シミュレーション ,  弾性散乱 ,  光イオン化 ,  酸化ハフニウム ,  非対称パラメータ ,  異方性

分類 (1件)： 電子分光スペクトル  (BM09060K)

タイトルに関連する用語 (3件)： 分解 ,  X線光電子スペクトル ,  シミュレーション