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J-GLOBAL ID：201002272835336347   整理番号：10A0518284

フレーク-壁構造をもつ酸化タングステン(IV)膜の作製および光電気化学特性

Fabrication and photoelectrochemical property of tungsten(VI) oxide films with a flake-wall structure

著者 (3件)： AMANO Fumiaki (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  LI Ding (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  OHTANI Bunsho (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
資料名： Chemical Communications  (Chemical Communications)
巻： 46  号： 16  ページ： 2769-2771  発行年： 2010年04月28日 
JST資料番号： D0376B  ISSN： 1359-7345  CODEN： CHCOFS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酸化スズ透明電極被覆ガラス基板上にWCl₆エタノール溶液の水熱処理/水洗からなるゾル-ゲル法により水和酸化タングステンWO₃・H₂O膜を成長させ,焼成によりWO₃膜を得た。X線回折および断面の走査電子顕微鏡により表層構造を決定した。垂直配向した板状微結晶層の上にフレーク状結晶が成長した積層構造をもつ。白金電極,Ag/AgCl参照電極,硫酸ナトリウム電解質水溶液との組合せにより水の光電気化学的分解を検討した。400nm単色光のIPCEは36%でナノ結晶厚膜に比べて高い変換効率が得られた。

シソーラス用語： *酸化タングステン ,  *薄膜 ,  酸化スズ ,  透明電極 ,  塩化タングステン ,  熱処理 ,  ゾル-ゲル法 ,  結晶成長 ,  X線回折 ,  断面 ,  表層構造 ,  積層構造 ,  固液界面 ,  白金電極 ,  電解質溶液 ,  光電気化学反応 ,  水 ,  分解 ,  酸素発生 ,  *電極触媒
準シソーラス用語： IPCE ,  水熱処理 ,  電解質水溶液

分類 (2件)： 光化学反応  (CB08020F) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： フレーク ,  酸化タングステン ,  作製 ,  光電気化学特性