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J-GLOBAL ID：201002273224364910   整理番号：10A0434648

低エネルギーイオンビームを照射したSiX線鏡の表面粗さの発展

Evolution of surface roughness in silicon X-ray mirrors exposed to a low-energy ion beam

著者 (7件)： ZIEGLER E. (European Synchrotron Radiation Facility, 38043 Grenoble cedex, FRA) ,  PEVERINI L. (European Synchrotron Radiation Facility, 38043 Grenoble cedex, FRA) ,  VAXELAIRE N. (European Synchrotron Radiation Facility, 38043 Grenoble cedex, FRA) ,  CORDON-RODRIGUEZ A. (European Synchrotron Radiation Facility, 38043 Grenoble cedex, FRA) ,  ROMMEVEAUX A. (European Synchrotron Radiation Facility, 38043 Grenoble cedex, FRA) ,  KOZHEVNIKOV I.v. (Inst. of Crystallography, Moscow 119333, RUS) ,  SUSINI J. (European Synchrotron Radiation Facility, 38043 Grenoble cedex, FRA)
資料名： Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section A. Accelerators, Spectrometers, Detectors and Associated Equipment  (Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section A. Accelerators, Spectrometers, Detectors and Associated Equipment)
巻： 616  号： 2-3  ページ： 188-192  発行年： 2010年05月01日 
JST資料番号： D0208B  ISSN： 0168-9002  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： イオン照射 ,  表面仕上 ,  表面粗さ ,  *反射鏡 ,  イオンエッチング ,  単結晶 ,  ケイ素 ,  反射率 ,  斜め入射波
準シソーラス用語： *X線ミラー ,  X線集束 ,  X線反射率 ,  イオンビーム研磨

分類 (1件)： X線技術  (BA02060D)

タイトルに関連する用語 (4件)： 低エネルギーイオン ,  ビーム ,  表面粗さ ,  発展