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J-GLOBAL ID：201002274148997336   整理番号：10A0422215

ナノ構造化材料中のイオン及び電子照射誘起効果

Ion and electron irradiation-induced effects in nanostructured materials

著者 (2件)： KRASHENINNIKOV A. V. (Dep. of Physics, Univ. of Helsinki, P.O. Box 43, Helsinki FI-00014, FIN) ,  NORDLUND K. (Dep. of Physics, Univ. of Helsinki, P.O. Box 43, Helsinki FI-00014, FIN)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 107  号： 7  ページ： 071301  発行年： 2010年04月01日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高速電子及びイオンによる固体照射は標的に排他的に有害な影響を与えると一般に誤解されている。バルク半導体のドーピングや鋼のイオンビーム窒化の周知の事例に加え,最近の実験は照射がナノ構造系に有益効果もたらすことを示す。電子やイオンビームはナノクラスタやナノワイヤの合成,制御可能な方法でのその形態の変更,機械的,電気的,及び磁気的性質すらも調整できる手段として利用できる可能性がある。ナノ規模で材料特性を修飾するための手段としてのハーネシング照射は,ナノ標的中の欠陥生成と焼なましの完全に微視的描像を必要とする。本論文では,半導体及び金属のナノクラスタとナノワイヤ,ナノチューブ,フラーレン等の種々の零次元及び一次元のナノ規模系への照射効果の理解の最近の進歩を解説した。また,カーボンナノチューブとの類似性から二次元ナノ系グラフェンも考察した。理論と実験の結果に基づいて,ナノ構造における照射効果の背景にある物理学だけでなく,ナノ系の工学への照射の技術応用可能性も論じた。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 電子照射 ,  イオン照射 ,  *放射線効果 ,  電子ビーム ,  イオンビーム ,  *ナノ構造 ,  特性 ,  表面改質 ,  フラーレン
準シソーラス用語： 材料特性

分類 (1件)： 放射線による構造と物性の変化一般  (BK16121W)

タイトルに関連する用語 (3件)： ナノ構造 ,  イオン ,  電子照射