ゾル-ゲル法によるガラス基板へのNb添加TiO<sub>2</sub>(TNO)透明導電性酸化物多結晶膜の作製

ZHAO Liang; ZHAO Xiaoru; LIU Jinming; ZHANG An; WANG Danhong; WEI Bingbo

文献

J-GLOBAL ID：201002274156288808 整理番号：10A0348772

ゾル-ゲル法によるガラス基板へのNb添加TiO₂(TNO)透明導電性酸化物多結晶膜の作製

Fabrications of Nb-doped TiO₂ (TNO) transparent conductive oxide polycrystalline films on glass substrates by sol-gel method

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資料名：
巻： 53 号： 2 ページ： 475-479 発行年： 2010年02月
JST資料番号： W0812A ISSN： 0928-0707 CODEN： JSGTEC 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

Ti_0.94Nb_0.06O₂(TNO)膜をゾル-ゲル法でガラス基板に作製し,電気的,光学的性質を調べた。テトラブチルチタネートと塩化ニオブから前駆体溶液を作製し,ディップコーティングと乾燥を繰り返して厚さ150nmの膜を得た。大気中350~550°Cで熱処理後,真空中550°Cで熱処理した。X線回折から400°Cでアナターゼ相が生成し,それ以上では結晶性が向上した。550°Cで真空加熱したTNO膜はシート抵抗1.3×10⁶Ω/□,キャリヤ濃度2.3×10¹⁷cm^-3,移動度1.4cm²V^-1s^-1,電気抵抗19.3Ωcmであった。可視-近赤外透過率は約75%で,光学的バンドギャップは3.37eVであった。

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セラミック・陶磁器の製造 , 酸化物薄膜 , 固体デバイス材料

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ゾル-ゲル法によるガラス基板へのNb添加TiO2(TNO)透明導電性酸化物多結晶膜の作製

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