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J-GLOBAL ID：201002274262876859   整理番号：10A1528709

電解質水溶液中での異なる官能化シリカ表面に対するAFMカンチレバーの動的応答

Dynamic Response of AFM Cantilevers to Dissimilar Functionalized Silica Surfaces in Aqueous Electrolyte Solutions

著者 (5件)： WU Yan (Univ. Wisconsin-Platteville, Wisconsin, USA) ,  MISRA Sambit (Univ. Illinois at Urbana-Champaign, Illinois, USA) ,  KARACOR M. Basar (Ohio State Univ., Ohio, USA) ,  PRAKASH Shaurya (Ohio State Univ., Ohio, USA) ,  SHANNON Mark A. (Univ. Illinois at Urbana-Champaign, Illinois, USA)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 26  号： 22  ページ： 16963-16972  発行年： 2010年11月16日 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： AFMのマイクロカンチレバ-で固体-水溶液間の界面力定量をする際の改良を試みた。pHを4~9に調整した塩水と,臭素,アミノ基,メチル基を出したコロイドシリカ及びその金被覆粒子のプローブチップとの間で種々の間隔で振動減衰を測った。ガラス容器の洗浄,チップのクリック法での官能化を詳記した。各官能化表面の疎水性を接触角で評価し,溶融石英を対照表面として,静的AFM測定値を動的測定の基準とした。カンチレバー振動の振幅と位相から相互作用の実効剛性と減衰定数を計算した。これらの数値は固体/水界面での電気二重層と間隔依存流体力学的減衰に対応する。実効剛性はシリカ表面電荷に依存し,減衰は表面の疎水性と強い相関があった。すなわち測定表面の化学組成で界面の性質は大きく変る。

シソーラス用語： *原子間力顕微鏡 ,  *動的応答 ,  pH依存性 ,  *塩水 ,  臭素 ,  アミノ基 ,  官能化 ,  金めっき ,  プローブ ,  チップ ,  間隔 ,  疎水性 ,  接触角 ,  *振幅 ,  *位相 ,  剛性 ,  *減衰定数 ,  固液界面 ,  電気二重層 ,  粘性減衰 ,  表面電荷 ,  電解質溶液 ,  相関 ,  *振動 ,  流体力学的相互作用 ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： *シリカ ,  クリックケミストリー ,  *コロイドシリカ ,  *マイクロカンチレバー ,  メチル基 ,  界面相互作用 ,  *界面特性 ,  *吸引力 ,  表面組成

分類 (2件)： 固-液界面  (CB12050B) ,  振動の励起・発生・測定  (BB02030Z)

タイトルに関連する用語 (6件)： 電解質水溶液 ,  官能化 ,  シリカ ,  AFM ,  カンチレバー ,  動的応答