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J-GLOBAL ID：201002274274163041   整理番号：10A0157819

ニッケルメッキ電解液中のBi₂S₃コーティングの電気化学的修飾

Electrochemical modification of Bi₂S₃ coatings in a nickel plating electrolyte

著者 (7件)： VALIULIENE Genovaite (Inst. of Chemistry, Vilnius, LTU) ,  ZIELIENE Albina (Inst. of Chemistry, Vilnius, LTU) ,  SIMKUNAITE Birute (Inst. of Chemistry, Vilnius, LTU) ,  NARUSKEVICIUS Leonas (Inst. of Chemistry, Vilnius, LTU) ,  TAMASIUNAITE Loreta T. (Inst. of Chemistry, Vilnius, LTU) ,  PAKSTAS Vidas (Inst. of Chemistry, Vilnius, LTU) ,  SELSKIS Algis (Inst. of Chemistry, Vilnius, LTU)
資料名： Journal of Solid State Electrochemistry  (Journal of Solid State Electrochemistry)
巻： 14  号： 2  ページ： 203-212  発行年： 2010年02月 
JST資料番号： W1021A  ISSN： 1432-8488  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 硫化ビスマスコーティングは容易に生成し,誘電体の直接金属化に使える。ニッケルメッキ電解液中のBi₂S₃電気化学的挙動を検討した。ここではWattsニッケルメッキ電解液中のBi₂S₃コーティングの電気化学的挙動を,CV,EQCM,XRD,エネルギー分散X線分析法で調べた。-0.4から-0.6Vのポテンシャル領域で,Bi₂S₃とBi(III)酸素化合物が金属Biに還元され,コーティング量の減少は電極表面からのS^2-イオンの移動と関連している。ポテンシャル領域-0.1~-0.4Vにおけるコーティング量の観測される増加は,電極上に析出させたBi₂S₃によって開始されるNiのバルク析出前にNi²⁺還元により決定される。このポテンシャル領域でBi(III)酸素化合物の還元が起こる。E=-0.3Vでニッケルメッキ電解液中の析出したままの硫化ビスマスコーティングを処理したあと,層のシート抵抗は10¹³から500-700Ωcmに低下する。Wattsニッケルメッキ電解液でNi/Ni²⁺系の平衡ポテンシャルに近いポテンシャルで析出したままの硫化ビスマスコーティングを処理し,次に120°C以上の温度でアニーリングすると金属に富む混合硫化物Ni₃Bi₂S₂-パーケライトが得られる。

シソーラス用語： *ニッケルめっき ,  *電解液 ,  *化学修飾 ,  *ビスマス化合物 ,  *硫化物 ,  ワット浴 ,  サイクリックボルタンメトリー ,  微量天秤 ,  X線回折 ,  エネルギー分散X線分光分析 ,  シート抵抗 ,  走査電子顕微鏡 ,  ニッケル化合物
準シソーラス用語： 水晶微量天秤 ,  *硫化ビスマス

分類 (1件)： 電気化学反応  (CB07050F)

タイトルに関連する用語 (4件)： ニッケルメッキ ,  電解液 ,  コーティング ,  化学的修飾