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J-GLOBAL ID：201002274460666444   整理番号：10A1567139

原子的に平滑なSi(100)ウエハー面を調合するための含水処理

Wet treatment for preparing atomically smooth Si(100) wafer surface

著者 (5件)： SAKAUE H ,  TANIGUCHI Y ,  OKAMURA Y ,  SHINGUBARA S ,  TAKAHAGI T
資料名： APPLIED SURFACE SCIENCE
巻： 234  号： 1-4  ページ： 439-444  発行年： 2004年 
JST資料番号： O0615A  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： その他 (ZZZ)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (4件)： 原子 ,  Si ,  ウエハー面 ,  調合