光酸からの励起状態プロトン移動により研究した酸化多孔質シリコン中の閉じ込められたH<sub>2</sub>Oのプロトン性

HUTTER Tanya; PRESIADO Itay; RUSCHIN Shlomo; HUPPERT Dan

文献

J-GLOBAL ID：201002274822568470 整理番号：10A0301913

光酸からの励起状態プロトン移動により研究した酸化多孔質シリコン中の閉じ込められたH₂Oのプロトン性

Protic Properties of Water Confined in the Pores of Oxidized Porous Silicon Studied by Excited-State Proton Transfer from a Photoacid

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資料名：
巻： 114 号： 5 ページ： 2341-2348 発行年： 2010年02月11日
JST資料番号： W1877A ISSN： 1932-7447 CODEN： JPCCCK 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

~62%の間隙率を持つ,電気化学的エッチングで調製した酸化多孔質シリコン(PSi)中の小孔に閉じ込めた水の光プロトリシス過程を調べた。調製したPSi平均細孔径は10nmで,深さは2μmで,湿度100%で数分で細孔体積の26±6%を水が占めた。光酸として8-ヒドロキシ-1,3,6-ピレントリスルホン酸三ナトリウム塩(HPTS)を用いて,励起状態プロトン移動速度を調べ,バルク水より細孔内水のほうが少し早いことが分かった。プロトン拡散定数もバルク水より少し小さい。細孔壁はプロトンを反射し,細孔半径は深さに比べて小さいので,時間分解発光データを調べた結果,プロトン移動から長時間後のプロトン拡散空間は三次元よりむしろ二次元と考えられる。

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光化学一般 , 固-液界面

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光酸からの励起状態プロトン移動により研究した酸化多孔質シリコン中の閉じ込められたH2Oのプロトン性

光酸からの励起状態プロトン移動により研究した酸化多孔質シリコン中の閉じ込められたH₂Oのプロトン性