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J-GLOBAL ID：201002276060556103   整理番号：10A1607472

次世代リソグラフィ,注目の技術 オプティカル・エクステンションによる微細化技術

著者 (6件)： 井上壮一 (東芝) ,  前田志門 (東芝) ,  瀧本道也 (東芝) ,  高畑和宏 (東芝) ,  小谷敏也 (東芝) ,  田中聡 (東芝)
資料名： Optronics  (Optronics)
号： 348  ページ： 60-63  発行年： 2010年12月10日 
JST資料番号： Y0019A  ISSN： 0286-9659  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本稿では,光リソグラフィを極限まで使いこなす技術であるオプティカル・エクステンションの開発状況と課題について述べた。はじめに寸法精度を向上させる技術として,SRAF技術とSMO技術を紹介した。オプティカル・エクステンションの究極を実現するためには,上記のようなSRFやSMO技術による寸法精度向上だけでなく,マスク,OPC,レジスト,露光装置等のユニット技術それぞれに起因する寸法誤差を低減させることが大切である。そこで,高精度なリソグラフィモデルから構成されるリソグラフィシミュレーション技術を核として,それぞれを総合的に連携させて相互の誤差を相殺させる,あるいはユニット技術を跨る総合的な合否基準を設定することで,最終的な寸法精度を向上させるパターニング総合最適化技術の開発が進んできている。

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,  *微細加工 ,  *寸法精度 ,  CAD【計算機】 ,  パターン形成 ,  回路パターン形成 ,  最適化手法 ,  技術進歩 ,  配置設計 ,  データベース ,  レイアウト ,  フォトマスク

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 次世代 ,  リソグラフィ ,  注目 ,  微細化