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J-GLOBAL ID:201002276137919395   整理番号:10A0860873

無機膜の急速熱処理

Rapid thermal processing of inorganic membranes
著者 (4件):
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巻: 362  号: 1-2  ページ: 127-133  発行年: 2010年10月15日 
JST資料番号: E0669A  ISSN: 0376-7388  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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急速熱処理(RTP)法は主に薄い支持された無機膜層の処理時間の短縮の為に使用される。この方法によって膜はより微細なより均一なミクロ構造になり高温処理を必要とする膜を熱安定性に限度がある支持体上に生成する為に使うことが出来る。RTPの短い処理時間は成形コストを低減し,プロセス最適化を向上し,又他の多層構造の探求を勇気付ける。この論文の研究は薄い,厚み~400nmの無欠陥の支持メソポーラスγ-アルミナ膜へのRTPの使用を実証した。従来法で熱処理された(CTP),及びRTPγ-アルミナ膜を偏光解析法,顕微鏡,水溶性イオン排除率,及びパームポロメトリーによりキャラクタライズした。CTP及びRTP膜は1mol/m3の塩化カルシウム2水化物と0.01mol/m3の塩化アルミニウム溶液で水溶性イオン排除率それぞれ>95%及び>97%であった。偏光解析法分析によればRTPとCTP膜の空孔率は約それぞれ43及び50%であった。パームポロメトリーはRTP及びCTP膜の細孔サイズφpがそれぞれ3.4+2t及び4.3+2tnmでt=0.35nmであった。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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セラミック・磁器の性質  ,  膜分離 
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