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J-GLOBAL ID：201002276380691300   整理番号：10A1383968

イオンアシスト蒸着によるフッ素系高分子薄膜の作製

Deposition Polymerization of Fluoropolymer Thin Films by Ion-Assisted Vapor Deposition

著者 (4件)： 松田剛 (東京農工大 大学院工学府) ,  泉田和夫 (住友精密工業) ,  田中邦明 (東京農工大 大学院工学府) ,  臼井博明 (東京農工大 大学院工学府)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 110  号： 243(OME2010 46-54)  ページ： 5-10  発行年： 2010年10月15日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： フッ素系高分子薄膜の新規な形成技術としてイオンアシスト蒸着法を試みた。基板表面に低エネルギーArイオンを照射しつつフッ化アルキルアクリレートモノマーを蒸着した結果,高い撥水性を示すフッ素系高分子薄膜が得られた。これに対しイオン照射なしの蒸着では,薄膜を堆積することはできなかった。金表面では平坦な薄膜が得られたが,ガラス表面では膜表面に凹凸が観察された。これは未反応モノマーの凝集物と考えられ,HCFC-225溶媒で膜表面を洗浄することで平坦性を向上させることができた。本手法を用いてガラス表面に厚さ100nmの高分子薄膜を形成した結果,光反射率を8%から3%へ低減できた。(著者抄録)

シソーラス用語： *高分子薄膜 ,  *イオン照射 ,  *フッ素化重合体 ,  アルゴン ,  反射防止膜 ,  自己組織化 ,  表面構造 ,  *蒸着重合 ,  膜厚 ,  反射率 ,  蒸着膜 ,  *ポリアクリル酸エステル

分類 (1件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L)

物質索引 (1件)： アクリル酸3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-トリデカフルオロオクチル

引用文献 (9件)：

• KATSUKI, K. Preparation of carbazole polymer thin films chemically bound to substrate surface by physical vapor deposition combined with self-assembled monolayer. Jpn. J. Appl. Phys., B. 2005, 44, 1B, 504-508
• KAWAKAMI, A. Interface control by surface-initiated deposition polymerization and its application to organic light-emitting devices. Jpn. J. Appl. Phys. 2008, 47, 4, 3156-3161
• TAKAGI, T. Ionized cluster beam deposition and epitaxy. Physics of Thin Films. 1987, 13, 1-58
• 臼井博明. イオン照射アシストによる蒸着重合膜の作製. 信学技報. 2009, 109, 147, 5-8
• SENDA, K. Ion-assisted vapor deposition of acryl polymer thin films. 16th Int. Conf. Surf. Modifi. Materi. Ion Beams, Tokyo, Sep. 2000. 2000, 143

タイトルに関連する用語 (6件)： イオン ,  アシスト ,  蒸着 ,  フッ素系高分子 ,  薄膜 ,  作製