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J-GLOBAL ID：201002276665655669   整理番号：10A0424995

ネガ現像用ArF液浸レジスト材料の開発

著者 (1件)： 樽谷晋司 (富士フイルム)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 90th  号： 1  ページ： 32  発行年： 2010年03月12日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 32 nm以下のデザインルールデバイスのプロセスとして有望視されている,ArF液浸ダブルパターニングプロセスにおけるトレンチパターンやホールパターン形成に有用な,溶剤現像によるネガトーンイメージング用のレジスト材料開発について報告する。寸法均一性,ドライエッチング耐性,パターン欠陥等の性能の紹介と,リソグラフィー性能における課題とその解決手段,成果について報告する。(著者抄録)

シソーラス用語： 半導体プロセス ,  微細加工 ,  *フォトレジスト ,  *フォトリソグラフィー ,  アルゴン化合物 ,  フッ化物 ,  エキシマレーザ ,  露光 ,  *焦点合せ ,  ドライエッチング ,  寸法安定性 ,  パターン形成
準シソーラス用語： 32nmノード ,  デフォーカス ,  ネガ型レジスト ,  フッ化アルゴン ,  液浸リソグラフィー ,  液浸露光

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： ネガ ,  現像 ,  ARF ,  液浸 ,  レジスト材料 ,  開発