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J-GLOBAL ID：201002276887002582   整理番号：10A1542659

H₂S吸着除去のための階層的細孔構造を備えたポリエチレンイミンを含んだ一体構造シリカ

Poly(ethyleneimine)-Loaded Silica Monolith with a Hierarchical Pore Structure for H₂S Adsorptive Removal

著者 (7件)： CHEN Qingjun (East China Univ. Sci. and Technol., Shanghai, CHN) ,  FAN Feichao (East China Univ. Sci. and Technol., Shanghai, CHN) ,  LONG Donghui (East China Univ. Sci. and Technol., Shanghai, CHN) ,  LIU Xiaojun (East China Univ. Sci. and Technol., Shanghai, CHN) ,  LIANG Xiaoyi (East China Univ. Sci. and Technol., Shanghai, CHN) ,  QIAO Wenming (East China Univ. Sci. and Technol., Shanghai, CHN) ,  LING Licheng (East China Univ. Sci. and Technol., Shanghai, CHN)
資料名： Industrial & Engineering Chemistry Research  (Industrial & Engineering Chemistry Research)
巻： 49  号： 22  ページ： 11408-11414  発行年： 2010年11月17日 
JST資料番号： C0385C  ISSN： 0888-5885  CODEN： IECRED  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高度に効率的なH₂S吸着剤の開発を目的として,ポリエチレンイミン(PEI)を含んだ一体構造化シリカの構築に関して実験検討を行ない,下記事項などについて解説した。1)H₂S収着剤の調製,2)H₂S除去のための収着剤に関する動的解析テスト,3)収着剤に関する吸脱着特性の解析(キャラクタリゼーション),4)一体構造シリカ収着剤の形態解析(細孔構造,FTIR分析,など),5)H₂S吸着除去のための階層的細孔構造シリカの性能評価結果,a)PEI含有量の影響,b)収着温度の影響,c)PEI平均分子量の影響,d)収着剤の再生性能。

シソーラス用語： *ポリエチレンイミン ,  *収着剤 ,  動的解析 ,  *キャラクタリゼーション ,  硫化水素 ,  *一体構造 ,  細孔構造 ,  FTIR分光法 ,  *依存性 ,  温度依存性 ,  *特性 ,  性能評価 ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： *シリカ ,  *パラメータ依存性 ,  分子量依存性 ,  *再生特性

分類 (1件)： 有害ガス処理法  (SC04030H)

タイトルに関連する用語 (6件)： H2S ,  吸着除去 ,  細孔構造 ,  ポリエチレンイミン ,  一体構造 ,  シリカ