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J-GLOBAL ID:201002276930723019   整理番号:10A0969705

基板によって誘発される歪みとCrO2薄膜におけるその効果

Substrate-induced strain and its effect in CrO2 thin films
著者 (7件):
資料名:
巻: 108  号:ページ: 053713  発行年: 2010年09月01日 
JST資料番号: C0266A  ISSN: 0021-8979  CODEN: JAPIAU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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本稿では,基板によって誘発される歪みと各方位を持つTiO2基板上に堆積された(100)および(110)CrO2薄膜におけるその効果に関する研究結果を報告する。(110)CrO2薄膜は基本的に歪みのない状態で成長するのに対して,(100)CrO2薄膜は全ての格子方向,即ち面外方向には圧縮歪み,そして面内方向には引っ張り応力,に関して歪みが生じることが分かった。歪みを持つ(100)および歪みのない(110)CrO2薄膜における結晶格子パラメータと三つの結晶方向に関する歪みの大きさを決定した。また,基板によって誘発される歪みは,(100)CrO2薄膜の室温における磁気モーメントに大きな影響を及ぼすことが分かった。(100)薄膜における歪みが増すと,磁気モーメントは減少し,歪みのない(110)CrO2薄膜は全ての厚さにおいて大きな磁気モーメントを持つことが分かった。歪みのある(100)および歪みのない(110)CrO2薄膜に関する巨視的コンダクタンスの5~400Kの温度域における定性的な振る舞いは非常に類似し,低温およびTc近傍では同じ振る舞いを示すことが分かった。(翻訳著者抄録)
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分類 (2件):
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酸化物薄膜  ,  酸化物結晶の磁性 
タイトルに関連する用語 (3件):
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