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J-GLOBAL ID：201002277517918312   整理番号：10A0305173

フルオロ水素化イオン液体中での多孔質シリコンの形成

Porous Silicon Formation in Fluorohydrogenate Ionic Liquids

著者 (4件)： RAZ Ofer (Technion-Israel Inst. of Technol., Haifa, ISR) ,  SHMUELI Zachi (Technion-Israel Inst. of Technol., Haifa, ISR) ,  HAGIWARA Rika (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  EIN-ELI Yair (Technion-Israel Inst. of Technol., Haifa, ISR)
資料名： Journal of the Electrochemical Society  (Journal of the Electrochemical Society)
巻： 157  号： 3  ページ： H281-H286  発行年： 2010年 
JST資料番号： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 2種類のフルオロ水素化イオン液体中でn型Siウエハをアノード分解(電解エッチング)して多孔質Si層を形成した。イオン液体は,1-エチル-3-メチルイミダゾリウム(FH)_2.3F[EMIm(FH)_2.3F]とCs(FH)_2.3Fである。印加電圧が高いほど,深くて直径の大きな細孔が形成された。X線光電子分光からSi面にSi-F結合が形成されることが分かった。Cs(FH)_2.3Fの場合,Si面に析出物としてCsSiF₆が形成された。Siのエッチングは次のようにして進行する。Siと(FH)₂F^-が反応してSiF₂が形成され,さらにSiF₂は(FH)₂F^-と反応して気化性のSiF₄を生成する。またSiF₄は(FH)₂F^-と反応して可溶性のSiF₆^-2イオンを生成する。

シソーラス用語： *イオン液体 ,  フッ化物 ,  水素化物 ,  セシウム化合物 ,  陽極溶解 ,  *多孔質シリコン ,  *電解エッチング ,  ケイ素 ,  X線光電子スペクトル ,  析出物

分類 (2件)： 電気化学反応  (CB07050F) ,  無機化合物一般及び元素  (CD01010D)

物質索引 (1件)： 1-エチル-3-メチルイミダゾリウム

タイトルに関連する用語 (3件)： 水素化 ,  イオン液体 ,  多孔質シリコン