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J-GLOBAL ID：201002277607242393   整理番号：10A0552735

ナノスケール先端のシリコン高アスペクト比のマイクロ探針アレイへの集積および3D製造技術

INTEGRATION AND 3D FABRICATION TECHNIQUES TO NANOSCALE-TIP SILICON HIGH-ASPECT-RATIO MICROPROBE ARRAYS

著者 (4件)： GORYU A. (Toyohashi Univ. Technol., Aichi, JPN) ,  IKEDO A. (Toyohashi Univ. Technol., Aichi, JPN) ,  KAWANO T. (Toyohashi Univ. Technol., Aichi, JPN) ,  ISHIDA M. (Toyohashi Univ. Technol., Aichi, JPN)
資料名： Technical Digest. IEEE Micro Electro Mechanical Systems  (Technical Digest. IEEE Micro Electro Mechanical Systems)
巻： 23rd Vol.1  ページ： 280-283  発行年： 2010年 
JST資料番号： W0377A  ISSN： 1084-6999  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノ探針の生物組織への貫入への応用において,数100ミクロン程度の長さを持つナノワイヤ/ナノチューブは,しかし,貫入能力において,貫入中のナノワイヤ/ナノチューブの曲がりあるいは破損によって目的組織に達することができない。本研究では,高アスペクト比のナノ計測システムのためのナノスケール先端シリコンマイクロ探針アレイへの集積および3D製造技術を開発した。シリコンエッチングのコントロールによるナノ先端をもつ蒸気-液体-固体成長シリコンマイクロ探針アレイをICプロセス化された相互接続により集積した。続いてナノ先端シリコン探針はPt/Tiによって覆われ,絶縁材SiO₂によって包まれる。探針先端でのフォトレジストのコーティングとフォトレジスト/SiO₂エッチングにより露出した長さ2μmのRt/Ti/シリコンナノ先端を得ることができた。

シソーラス用語： プローブ ,  規模 ,  端部 ,  *生体組織 ,  エッチング ,  集積 ,  生産技術
準シソーラス用語： *3D製造技術 ,  *ナノスケール先端 ,  *マイクロ探針アレイ ,  生物組織 ,  製造技術 ,  先端 ,  探針

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (8件)： ナノスケール ,  シリコン ,  高アスペクト比 ,  探針 ,  アレイ ,  集積 ,  3D ,  製造技術