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J-GLOBAL ID：201002277787779500   整理番号：10A0760530

塩酸溶液中における熱的に成長させた二酸化ケイ素とガラス上へEB-PVD(電子ビーム物理蒸着)法により蒸着させた銅薄膜の腐食挙動

Corrosion behavior of copper thin films deposited by EB-PVD technique on thermally grown silicon dioxide and glass in hydrochloric acid media

著者 (2件)： SAREMI M. (School of Metallurgy and Materials Engineering, Univ. Coll. of Engineering, Univ. of Tehran, North Kargar, Tehran ...) ,  YEGANEH M. (School of Metallurgy and Materials Engineering, Univ. Coll. of Engineering, Univ. of Tehran, North Kargar, Tehran ...)
資料名： Materials Chemistry and Physics  (Materials Chemistry and Physics)
巻： 123  号： 2-3  ページ： 456-462  発行年： 2010年10月01日 
JST資料番号： E0934A  ISSN： 0254-0584  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 基板温度70と150°C下,単結晶酸化ケイ素とガラス基板上へ,電子ビーム物理蒸着法を利用し,銅薄膜を蒸着させた。各SEMとXRDにより,蒸着膜の形態と結晶配向を調べた。動電位分極法により,塩酸中のこれらの膜の腐食挙動を研究した。結果では,CG70(基板温度70°C,ガラス上蒸着物)耐食性は,全蒸着物より大きく,また不動態層生成の高い能力のため銅シートよりも大きいことを示した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *金属薄膜 ,  *銅 ,  *蒸着膜 ,  物理蒸着 ,  電子ビーム ,  *基板 ,  *二酸化ケイ素 ,  *ガラス ,  基板温度 ,  走査電子顕微鏡 ,  X線回折 ,  結晶形態 ,  結晶方位 ,  電気化学的分極 ,  *塩酸 ,  *腐食 ,  耐食性 ,  不動態
準シソーラス用語： 動電位分極

分類 (4件)： 無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  金属薄膜  (BK14030T) ,  腐食基礎理論,腐食試験  (WB03020Q) ,  電極過程  (CB07040U)

タイトルに関連する用語 (10件)： 塩酸 ,  溶液 ,  成長 ,  二酸化ケイ素 ,  ガラス ,  電子ビーム物理蒸着 ,  法 ,  蒸着 ,  銅薄膜 ,  腐食挙動