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J-GLOBAL ID:201002279204486406   整理番号:10A0098232

(Ga,N)および(Al,N)コドープZnO膜の結晶性および光電気化学応答の強化

Enhanced crystallinity and photoelectrochemical response of (Ga,N) and (Al,N) co-doped ZnO films
著者 (8件):
資料名:
巻: 2009 Vol.1  ページ: 277-286  発行年: 2009年 
JST資料番号: E0697C  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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遷移金属酸化物は,水からの光電気化学(PEC)H2生産のための有望な候補材料である。これまでTiO2のみが大きな注目を集めているが,ZnOは,TiO2以上の直接バンドギャップと高い電子移動性を有する。従ってZnOのPEC特性も調べる必要がある。本研究では,低O2流量のN2/O2混合ガス中での反応性RFマグネトロンスパッタリングによりFドープSnO2被覆透明ガラス(FTO)基板上にZnO:(Ga,N)およびZnO:(Al,N)薄膜を室温および100°Cで蒸着,500°Cで後アニールして合成した。電荷補償ドナー-アクセプタコドーピングにより,ZnOにNのみをドープしたものに比べて結晶性が向上し,ZnO:(Ga,N)およびZnO:(Al,N)の場合,より多くのNを組み入れることができ,その結果,これらの薄膜では,高低両温度でPEC応答(光電流)が改良されることが分かった。
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分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
酸化物薄膜  ,  電気化学反応 

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