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J-GLOBAL ID：201002279308722268   整理番号：10A1567863

90nmノードのMOSFETのためのALDゲート・スタックを用いたHf-ケイ酸塩誘電体の電気的特徴付けとキャリア輸送

Electrical characterization and carrier transportation in Hf-silicate dielectrics using ALD gate stacks for 90 nm node MOSFETs

著者 (12件)： CHEN Hw ,  CHEN Sy ,  CHEN Kc ,  HUANG Hs ,  LIU Ch ,  CHIU Fc ,  LIU Kw ,  LIN Kc ,  CHENG Lw ,  LIN Ct ,  MA Gh ,  SUN Sw
資料名： APPLIED SURFACE SCIENCE
巻： 254  号： 19  ページ： 6127-6130  発行年： 2008年 
JST資料番号： O0615A  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： その他 (ZZZ)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (10件)： ノード ,  MOSFET ,  ALD ,  ゲート ,  スタック ,  HF ,  ケイ酸塩 ,  誘電体 ,  電気的特徴 ,  キャリア輸送