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J-GLOBAL ID：201002280206250394   整理番号：10A0605438

有機シリコンブロックを含むブロック共重合体の自己集合から規則化したシリカナノパターンができる簡単な経路

A simple pathway to ordered silica nanopattern from self-assembling of block copolymer containing organic silicon block

著者 (16件)： WANG Qi (Dep. of Polymer Sci. & Materials, Sichuan Univ., Chengdu 610065, CHN) ,  WANG Qi (State Key Lab. of Polymer Materials Engineering, Sichuan Univ., Chengdu 610065, CHN) ,  YANG Jinghui (Dep. of Polymer Sci. & Materials, Sichuan Univ., Chengdu 610065, CHN) ,  YANG Jinghui (State Key Lab. of Polymer Materials Engineering, Sichuan Univ., Chengdu 610065, CHN) ,  YAO Weiwei (Dep. of Polymer Sci. & Materials, Sichuan Univ., Chengdu 610065, CHN) ,  YAO Weiwei (State Key Lab. of Polymer Materials Engineering, Sichuan Univ., Chengdu 610065, CHN) ,  WANG Ke (Dep. of Polymer Sci. & Materials, Sichuan Univ., Chengdu 610065, CHN) ,  WANG Ke (State Key Lab. of Polymer Materials Engineering, Sichuan Univ., Chengdu 610065, CHN) ,  DU Rongni (Dep. of Polymer Sci. & Materials, Sichuan Univ., Chengdu 610065, CHN) ,  DU Rongni (State Key Lab. of Polymer Materials Engineering, Sichuan Univ., Chengdu 610065, CHN) ,  ZHANG Qin (Dep. of Polymer Sci. & Materials, Sichuan Univ., Chengdu 610065, CHN) ,  ZHANG Qin (State Key Lab. of Polymer Materials Engineering, Sichuan Univ., Chengdu 610065, CHN) ,  CHEN Feng (Dep. of Polymer Sci. & Materials, Sichuan Univ., Chengdu 610065, CHN) ,  CHEN Feng (State Key Lab. of Polymer Materials Engineering, Sichuan Univ., Chengdu 610065, CHN) ,  FU Qiang (Dep. of Polymer Sci. & Materials, Sichuan Univ., Chengdu 610065, CHN) ,  FU Qiang (State Key Lab. of Polymer Materials Engineering, Sichuan Univ., Chengdu 610065, CHN)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 256  号： 20  ページ： 5843-5848  発行年： 2010年08月01日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ブロック共重合体の自己集合はナノスケールの周期的な構造を調製する有効な戦術である。本論文では,シリコンウエハ上にポリ(スチレン-ブロック-ジメチルシロキサン)(PS-b-PDMS)の自己集合から,無機シリカナノパターンを調製する特異で簡単な方法を実証した。パターニングプロセスを簡単にするため,先ず高度に規則化したPDMSミクロドメインを得る。溶媒蒸気アニーリング条件を制御して,これをPS層で被覆する。UV/O₃照射に曝露して後,シリコン酸化物から成るナノパターン化表面を,PS相を選択的にエッチし,PDMS相をシリコン酸化物へ転化して直接作製する。ブロック共重合体の組成を調整すると,六方充填のドットと直線状のストライプパターンを得ることができた。最後に,球状の形態からそろった長い円柱への時間発展を論じた。これら結果はナノリソグラフィーやナノ素子の作製に有望である。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ブロック共重合体 ,  *自己集合 ,  ケイ素 ,  周期構造 ,  *パターン形成 ,  ミクロドメイン ,  紫外線照射 ,  オゾン ,  酸化ケイ素 ,  リソグラフィー ,  ポリスチレン ,  ポリジメチルシロキサン ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： *シリカ ,  ナノリソグラフィー

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： 有機シリコン ,  ブロック共重合体 ,  自己集合 ,  規則化 ,  経路