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J-GLOBAL ID：201002280321907119   整理番号：10A0938293

スプレー熱分解法,電子ビーム蒸着法およびrfマグネトロン技術により作製された酸化亜鉛の比較研究

Comparative study between zinc oxide elaborated by spray pyrolysis, electron beam evaporation and rf magnetron techniques

著者 (6件)： KHOURY A. (Univ. Libanaise-Fanar, jdeidet, Libanon) ,  AL ASMAR R. (Univ. Libanaise-Fanar, jdeidet, Libanon) ,  AL ASMAR R. (Univ. Montpellier II, Montpellier, FRA) ,  ABDALLAH M. (Univ. Libanaise-Fanar, jdeidet, Libanon) ,  EL HAJJ MOUSSA G. (Univ. Libanaise-Fanar, jdeidet, Libanon) ,  FOUCARAN A. (Univ. Montpellier II, Montpellier, FRA)
資料名： Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science  (Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science)
巻： 207  号： 8  ページ： 1900-1904  発行年： 2010年08月 
JST資料番号： D0774A  ISSN： 1862-6300  CODEN： PSSABA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 各種方法で作製されたZnO薄膜の構造,光学および電気特性を比較した。X線回折(XRD)による解析では,Si上に反応性電子ビーム蒸着したZnO薄膜は引張応力状態にあり,rfマグネトロンとスプレー熱分解ZnO層は圧縮応力状態にあった。Raman測定の結果は,XRDと相関していた。最高光透過率はrfマグネトロンで成長させた試料に対応した。光透過率はスプレー熱分解法や電子ビーム蒸着法では低下した。電気抵抗率を調べた結果,引張応力状態にある層は導電性だが,圧縮応力状態にある膜は絶縁材料をもたらすことを示した。いろいろな特性評価技術で得られた結果を比較し,引っ張り応力状態にあるZnO層が反応性電子ビーム法で得られ,rfマグネトロンとスプレー熱分解では圧縮応力状態にあるZnO薄膜が得られることを確認できた。

シソーラス用語： *酸化亜鉛 ,  化合物半導体 ,  半導体薄膜 ,  *電子ビーム蒸着 ,  マグネトロンスパッタリング ,  RFスパッタリング ,  *スパッタ蒸着 ,  薄膜成長 ,  X線回折 ,  *残留応力 ,  引張応力 ,  圧縮応力 ,  Ramanスペクトル ,  透過率 ,  *光学定数 ,  *電気抵抗率 ,  絶縁材料 ,  絶縁体
準シソーラス用語： Si基板 ,  *スプレー熱分解

分類 (4件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C) ,  光物性一般  (BM08010A) ,  半導体結晶の電気伝導  (BM03043X)

タイトルに関連する用語 (7件)： スプレー ,  電子ビーム蒸着 ,  RF ,  マグネトロン ,  作製 ,  酸化亜鉛 ,  研究