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J-GLOBAL ID:201002280466149743   整理番号:10A0695277

疎水-疎油性FAS/TEOS系シリカ反射防止膜の合成と特性解析

Synthesis and Characterization of Hydro-oleophobic FAS/TEOS Based Silica Antireflective Films
著者 (5件):
資料名:
巻: 42  号:ページ: 20-24  発行年: 2010年07月 
JST資料番号: D0972A  ISSN: 1070-9789  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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ゾル-ゲル法による慣性核融合用反射防止(AR)膜の開発を目的とする,ゾル-ゲル処理の共前駆体としてFAS(フルオロアルキルシラン)を用いる疎水-疎油性シリカAR膜の調製と特性解析を報告した。FASを0~0.3モル比で配合したTEOSの水添加エタノール溶液(10日間熟成)にK9光学ガラス基板を浸漬,引上げ後,室温乾燥,ついで熱処理(100°C),剥離する方法で膜試料を調製した。座滴法によって室温で接触角を測定し(湿潤液:蒸留水,落花生油),反射赤外分光で化学組成を調べた。紫外-可視分光計を用いて,350~1100nm波長領域の透過スペクトルを測定し,膜の透過率をK9ガラスと比較した。FASの添加によって,水及び油接触角はそれぞれ30°から135°に,また15°から93°に増大すること,1100cm-1にC-F結合による吸収が出現し,表面のHからSi-OH基への置換が示唆されること,これらの膜は疎水-疎油性であるだけでなく,反射防止性でもあり,最高99.5%の光透過率を有することなどが分かった。
シソーラス用語:
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分類 (4件):
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酸化物薄膜  ,  光物性一般  ,  光学器械要素とその材料  ,  核融合装置 
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