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J-GLOBAL ID：201002280519051988   整理番号：10A0176912

非晶質コバルト化学蒸着膜のリンと炭素の含有量効果

Effect of Phosphorus and Carbon Incorporation in Amorphous Cobalt Films Prepared by Chemical Vapor Deposition

著者 (2件)： HENDERSON Lucas B. (Univ. Texas at Austin, Texas, USA) ,  EKERDT John G. (Univ. Texas at Austin, Texas, USA)
資料名： Journal of the Electrochemical Society  (Journal of the Electrochemical Society)
巻： 157  号： 1  ページ： D29-D34  発行年： 2010年 
JST資料番号： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ジコバルトオクタカルボニルとトリメチルホスフィンのCVDで非晶質コバルトリン合金の薄膜を調製し,膜内の炭素不純物の効果を調べた。蒸着装置にXPSを付属した。炭素はコバルト,リンの炭化物でグラファイトを伴い,リン化物は存在しなかった。XRDで見た膜の微細構造には炭素もリンも影響したが電気抵抗の増加は大したことがなかった。蒸着温度を最低限にすると炭素含有量は減るが,リンが膜に侵入して高抵抗率のコバルト合金になり,抵抗は下がらない。膜の熱安定性は蒸着温度によらず良好で,400°C×3時間のアニール後も非晶質微細構造に変化が起きなかった。アニールで電気抵抗が低下したが,これは炭化コバルトの分解とそれに伴う金属コバルトの増加による。

シソーラス用語： *コバルト合金 ,  *リン含有合金 ,  *非晶質合金 ,  *金属薄膜 ,  *化学蒸着 ,  カルボニル化合物 ,  コバルト化合物 ,  *効果 ,  炭素 ,  炭化物 ,  グラファイト ,  リン化物 ,  微細構造 ,  電気抵抗 ,  電気抵抗率 ,  温度依存性 ,  含有量 ,  熱安定性 ,  焼なまし ,  X線光電子分光法 ,  アモルファス化 ,  X線回折
準シソーラス用語： *CVD【化学蒸着】 ,  *合金薄膜 ,  *不純物効果

分類 (3件)： 塩  (CD01050V) ,  電気的性質  (WB02010Y) ,  金属薄膜  (BK14030T)

物質索引 (1件)： トリメチルホスフィン

タイトルに関連する用語 (7件)： 非晶質 ,  コバルト ,  化学 ,  蒸着膜 ,  リン ,  炭素 ,  含有量