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J-GLOBAL ID：201002280736137416   整理番号：10A0326392

単一高分子位相マスクを用いた2Dおよび3Dフォトニック構造の全光製作

All-optical fabrication of 2D and 3D photonic structures using a single polymer phase mask

著者 (5件)： GOLDENBERG L M (Inst. of Thin Film Technol. and Microsensorics, Teltow, DEU) ,  GRITSAI Y (Inst. of Thin Film Technol. and Microsensorics, Teltow, DEU) ,  SAKHNO O (Fraunhofer Inst. for Applied Polymer Res., Potsdam, DEU) ,  KULIKOVSKA O (Fraunhofer Inst. for Applied Polymer Res., Potsdam, DEU) ,  STUMPE J (Fraunhofer Inst. for Applied Polymer Res., Potsdam, DEU)
資料名： Journal of Optics  (Journal of Optics)
巻： 12  号： 1  ページ： 015103,1-7  発行年： 2010年01月 
JST資料番号： D0538C  ISSN： 2040-8978  CODEN： JOOPCA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 単一位相マスクと単一ビーム露光を用いて2Dと3Dの光学構造を製作する簡単な方法を提案した。この薄膜位相マスクは平面内の正三角形の頂点に3つの位相格子を配置し,各格子のベクトルを120°ごとのずれにする。製法は二段階からなり,まず偏光ホログラフィーを用いて,アゾベンゼンドープ高分子膜にホログラフィック格子のパターンを形成し,次にソフトリソグラフィーを用いて,透明無色の表面レリーフ格子を複製する。この位相マスクを用いて,2Dおよび3D光学構造を製作し,その回折効率を評価した。

シソーラス用語： *マスク ,  ホログラフィック格子 ,  *回折格子 ,  平面構造 ,  立体構造 ,  ホログラフィー干渉法 ,  *ホログラム記録 ,  レーザビーム ,  *高分子薄膜 ,  ドーピング ,  パターン形成 ,  *リソグラフィー ,  回折効率 ,  ポリメタクリル酸メチル ,  複製 ,  芳香族化合物 ,  アゾ化合物 ,  ラクタム ,  ウレア化合物 ,  光格子
準シソーラス用語： *ソフトリソグラフィー ,  *位相マスク ,  光学格子 ,  *表面レリーフ格子

分類 (4件)： 光デバイス一般  (BD06010L) ,  ホログラフィーの応用  (BD03074U) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U)

物質索引 (2件)： アゾベンゼン ,  フェナントイン

タイトルに関連する用語 (6件)： 高分子 ,  位相マスク ,  2D ,  3D ,  フォトニック構造 ,  製作