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J-GLOBAL ID:201002281675986438   整理番号:10A0457375

改善された曲げ強さを有する非常に多孔質の炭化ケイ素セラミックの低温作製

Low temperature processing of highly porous silicon carbide ceramics with improved flexural strength
著者 (2件):
資料名:
巻: 45  号:ページ: 282-285  発行年: 2010年01月 
JST資料番号: B0722A  ISSN: 0022-2461  CODEN: JMTSAS  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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ポリカルボシラン,をSiCの前駆体に,ポリマーマイクロビーズをテンプレートにそしてポリシロキサンをバインダーに用いる,非常に多孔質の炭化ケイ素セラミックを合成する簡単なプレス法を研究した。エタノール中で粉砕した混合物を乾燥し,50MPaで一軸プレスし,長方形の棒に成形した。このポリカルボシランとポリマービーズからなる架橋体をAr雰囲気中1400°Cで熱分解して,多孔質Si(O)Cセラミックを作製した。このセラミックの典型的な曲げ強さは,気孔率70%で約30MPa,そして気孔率80%で約6MPaであった。
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分類 (1件):
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セラミック・陶磁器の製造 

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